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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第415位 83件
(2017年:第450位 88件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第450位 58件
(2017年:第453位 58件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6405859 | 半導体製造装置 | 2018年10月17日 | |
特許 6403045 | マルチビーム描画方法およびマルチビーム描画装置 | 2018年10月10日 | |
特許 6396200 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2018年 9月26日 | |
特許 6386898 | 検査方法および検査装置 | 2018年 9月 5日 | |
特許 6386901 | 気相成長装置及び気相成長方法 | 2018年 9月 5日 | |
特許 6383228 | マルチ荷電粒子ビームのビーム位置測定方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 | 2018年 8月29日 | |
特許 6376014 | 荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビームのビーム分解能測定方法、及び荷電粒子ビーム描画装置の調整方法 | 2018年 8月22日 | |
特許 6373074 | マスク検査装置及びマスク検査方法 | 2018年 8月15日 | |
特許 6373119 | マスク検査装置及びマスク検査方法 | 2018年 8月15日 | |
特許 6370198 | 気相成長装置および気相成長方法 | 2018年 8月 8日 | |
特許 6370630 | 気相成長装置および気相成長方法 | 2018年 8月 8日 | |
特許 6368081 | 計測装置 | 2018年 8月 1日 | |
特許 6363864 | 電子ビーム描画装置、及び電子ビームの収束半角調整方法 | 2018年 7月25日 | |
特許 6364193 | 焦点位置調整方法および検査方法 | 2018年 7月25日 | |
特許 6349944 | 電子ビーム描画装置及び電子ビーム描画方法 | 2018年 7月 4日 |
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6405859 6403045 6396200 6386898 6386901 6383228 6376014 6373074 6373119 6370198 6370630 6368081 6363864 6364193 6349944
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