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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第539位 58件
(2021年:第360位 101件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第278位 113件
(2021年:第298位 93件)
(ランキング更新日:2025年4月15日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7092089 | 半導体製品の導電型判別装置および導電型判別方法 | 2022年 6月28日 | |
特許 7088239 | エピタキシャル成長用の半導体ウェーハ、および半導体エピタキシャルウェーハの製造方法 | 2022年 6月21日 | |
特許 7081544 | ワークの両面研磨方法及びワークの両面研磨装置 | 2022年 6月 7日 | |
特許 7081558 | 半導体ウェーハの品質評価方法、半導体ウェーハの収容容器の評価方法、半導体ウェーハの収容容器の選定方法、半導体ウェーハの輸送ルートの評価方法および半導体ウェーハの輸送ルートの選定方法 | 2022年 6月 7日 | |
特許 7080017 | n型シリコン単結晶のインゴット、シリコンウェーハ、およびエピタキシャルシリコンウェーハ | 2022年 6月 3日 | |
特許 7077609 | シリコン単結晶の製造方法 | 2022年 5月31日 | |
特許 7078005 | シリコンウェーハの平坦化加工方法 | 2022年 5月31日 | |
特許 7074036 | 貼付物の検査方法および半導体ウェーハの内装方法 | 2022年 5月24日 | |
特許 7074105 | エピタキシャルシリコンウェーハの製造方法 | 2022年 5月24日 | |
特許 7074180 | 石英ガラスルツボ及びこれを用いたシリコン単結晶の製造方法 | 2022年 5月24日 | |
特許 7070010 | キャリアの製造方法および半導体ウェーハの研磨方法 | 2022年 5月18日 | |
特許 7070719 | シリコン単結晶の製造方法 | 2022年 5月18日 | |
特許 7067465 | 半導体ウェーハの評価方法及び半導体ウェーハの製造方法 | 2022年 5月16日 | |
特許 7064125 | 半導体ウェーハの分析方法、半導体ウェーハ製造工程評価方法および半導体ウェーハの製造方法 | 2022年 5月10日 | |
特許 7063181 | ウェーハの検査方法および検査装置 | 2022年 5月 9日 |
113 件中 46-60 件を表示
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7092089 7088239 7081544 7081558 7080017 7077609 7078005 7074036 7074105 7074180 7070010 7070719 7067465 7064125 7063181
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