※ ログインすれば出願人(株式会社SUMCO)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2022年 出願公開件数ランキング 第539位 58件 (2021年:第360位 101件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第278位 113件 (2021年:第298位 93件)
(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2023年 2024年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7006544 | SOIウェーハ及びその製造方法 | 2022年 2月10日 | |
特許 7017133 | 欠陥評価装置の調整状態評価方法及び調整方法 | 2022年 2月 8日 | |
特許 7003897 | ウェーハの製造方法、ワイヤーソー用再利用スラリーの品質評価方法、及びワイヤーソー用使用済みスラリーの品質評価方法 | 2022年 2月 4日 | |
特許 7013984 | FZ炉の多結晶原料把持具 | 2022年 2月 1日 | |
特許 7010166 | ワークの両面研磨装置および両面研磨方法 | 2022年 1月26日 | |
特許 7010179 | 単結晶の製造方法及び装置及びシリコン単結晶インゴット | 2022年 1月26日 | |
特許 7006573 | 単結晶引き上げ装置、および、シリコン単結晶の製造方法 | 2022年 1月24日 | |
特許 7006636 | シリコン単結晶製造装置 | 2022年 1月24日 | |
特許 7006788 | シリコン融液の対流パターン制御方法、および、シリコン単結晶の製造方法 | 2022年 1月24日 | |
特許 7003838 | 研磨ヘッド及びこれを用いたウェーハ研磨装置及び研磨方法 | 2022年 1月21日 | |
特許 7003904 | シリコンウェーハのバッチ式洗浄方法並びにその洗浄方法を用いたシリコンウェーハの製造方法及びシリコンウェーハの洗浄条件決定方法 | 2022年 1月21日 | |
特許 7003905 | 気相成長装置 | 2022年 1月21日 | |
特許 7003907 | 半導体ウェーハの端面評価方法、半導体ウェーハ収容容器の評価方法、半導体ウェーハ梱包形態の評価方法および半導体ウェーハ輸送形態の評価方法 | 2022年 1月21日 | |
特許 7004026 | ワークの両面研磨方法、ワークの製造方法、及びワークの両面研磨装置 | 2022年 1月21日 | |
特許 6996438 | 半導体ウェーハの洗浄方法、および該洗浄方法を用いた半導体ウェーハの製造方法 | 2022年 1月17日 |
113 件中 91-105 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
7006544 7017133 7003897 7013984 7010166 7010179 7006573 7006636 7006788 7003838 7003904 7003905 7003907 7004026 6996438
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社SUMCOの知財の動向チェックに便利です。
11月22日(金) -
11月22日(金) - 東京 千代田区
11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -