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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第539位 58件 (2021年:第360位 101件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第278位 113件 (2021年:第298位 93件)
(ランキング更新日:2024年9月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7172844 | シリコン単結晶引き上げ用石英ガラスルツボ及びその製造方法 | 2022年11月16日 | |
特許 7172878 | 単結晶シリコンの抵抗率測定方法 | 2022年11月16日 | |
特許 7167864 | 付着物除去装置及び付着物除去方法 | 2022年11月 9日 | |
特許 7163764 | 気相成長装置 | 2022年11月 1日 | |
特許 7163863 | 石英ルツボ製造用モールド及びこれを用いた石英ルツボ製造装置 | 2022年11月 1日 | |
特許 7163901 | 質量測定装置および質量測定方法 | 2022年11月 1日 | |
特許 7159861 | 両頭研削方法 | 2022年10月25日 | |
特許 7159898 | ウェーハ回収装置、研磨システム、および、ウェーハ回収方法 | 2022年10月25日 | |
特許 7159986 | エピタキシャル成長装置およびエピタキシャルウェーハの製造方法 | 2022年10月25日 | |
特許 7157932 | シリカガラスルツボの製造装置および製造方法 | 2022年10月21日 | |
特許 7151623 | 単結晶引き上げ装置の評価システム及び評価方法 | 2022年10月12日 | |
特許 7150250 | 石英ガラスルツボおよび石英ガラスルツボの製造方法 | 2022年10月11日 | |
特許 7147551 | 気相成長装置及びこれに用いられるキャリア | 2022年10月 5日 | |
特許 7143805 | エピタキシャルシリコンウェーハの不純物ゲッタリング能力の評価方法 | 2022年 9月29日 | |
特許 7144011 | 光モジュールの製造方法及び光モジュール | 2022年 9月29日 |
113 件中 16-30 件を表示
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7172844 7172878 7167864 7163764 7163863 7163901 7159861 7159898 7159986 7157932 7151623 7150250 7147551 7143805 7144011
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
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9月25日(水) -
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9月25日(水) - 東京 千代田区
9月25日(水) - 東京 千代田区
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9月26日(木) -
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