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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第41位 605件 (2023年:第32位 708件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第47位 555件 (2023年:第80位 398件)
(ランキング更新日:2025年2月6日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2024-510172 | リフトピンアセンブリ | 2024年 3月 6日 | |
特表 2024-510226 | 静電チャッキングにおける低減された局在的な力 | 2024年 3月 6日 | |
特開 2024-28699 | 基板のガス放出を管理するためのシステム及び方法 | 2024年 3月 5日 | |
特開 2024-28701 | 周期的高電圧バイアスを用いたプラズマ化学気相堆積 | 2024年 3月 5日 | |
特開 2024-28772 | 薄膜トランジスタを形成する方法 | 2024年 3月 5日 | |
特開 2024-28891 | インシトゥ電磁誘導監視のためのエッジ再構成における基板ドーピングの補正 | 2024年 3月 5日 | |
特表 2024-509727 | フォトレジストの露光後ベークのための装置 | 2024年 3月 5日 | |
特表 2024-509741 | パーツ、センサ、および計測データ統合 | 2024年 3月 5日 | |
特表 2024-509762 | ディスプレイ製造における基板を検査するための装置及び方法並びに基板を処理するためのシステム | 2024年 3月 5日 | |
特表 2024-509867 | リフトピン機構 | 2024年 3月 5日 | |
特表 2024-509519 | 可変ピッチアクセス用真空ロボット装置 | 2024年 3月 4日 | |
特表 2024-509520 | 製造システムコントローラの更新プロセス中の入出力(IO)ハンドリング | 2024年 3月 4日 | |
特表 2024-509546 | 化学機械研磨のための音響モニタリングおよびセンサ | 2024年 3月 4日 | |
特表 2024-509549 | 変動的なエッジ制御を含む研磨キャリアヘッド | 2024年 3月 4日 | |
特表 2024-509552 | エンクロージャシステムの構造 | 2024年 3月 4日 |
606 件中 481-495 件を表示
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2024-510172 2024-510226 2024-28699 2024-28701 2024-28772 2024-28891 2024-509727 2024-509741 2024-509762 2024-509867 2024-509519 2024-509520 2024-509546 2024-509549 2024-509552
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2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月7日(金) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月10日(月) -
2月12日(水) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
2月10日(月) -
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