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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第41位 605件 (2023年:第32位 708件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第47位 555件 (2023年:第80位 398件)
(ランキング更新日:2025年2月6日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2024-507675 | プラズマ処理のデジタル制御 | 2024年 2月21日 | |
特表 2024-507688 | 測定値違反解析を使用したプロセス異常の識別 | 2024年 2月21日 | |
特表 2024-507802 | 異なるセラミックを用いた静電チャック | 2024年 2月21日 | |
特表 2024-507833 | 1又は複数のアモルファスカーボンハードマスク層を用いた基板処理の方法、システム、及び装置 | 2024年 2月21日 | |
特表 2024-507450 | 温度制御され/電気的にバイアスをかけられるウエハ周辺 | 2024年 2月20日 | |
特表 2024-507455 | 線形膜酸化成長法 | 2024年 2月20日 | |
特表 2024-507507 | プロセスシフトが発生した場合に調整されたチャッキング電圧を使用してチャッキング動作を実行するための方法、システム、及び装置 | 2024年 2月20日 | |
特表 2024-507524 | 極紫外線フォトマスク上でのルテニウム酸化物還元のための方法及び装置 | 2024年 2月20日 | |
特表 2024-507525 | 非接触型プラテンエッジ制御付き研磨システム | 2024年 2月20日 | |
特表 2024-507335 | グラフェンの低温プラズマ化学気相堆積の方法及び装置 | 2024年 2月19日 | |
特表 2024-507345 | より短いキャパシタ高さのためのキャパシタ誘電体及び量子メモリDRAM | 2024年 2月19日 | |
特表 2024-506813 | 半導体チャンバ部品を洗浄するための高圧洗浄方法及び装置 | 2024年 2月15日 | |
特表 2024-506866 | プロセス冷却剤の流れを調整するための自己感知及び自己作動バルブ | 2024年 2月15日 | |
特表 2024-506871 | ウエハ処理装置のためのマルチゾーンヒータ制御 | 2024年 2月15日 | |
特表 2024-506923 | 二重荷重付加保持リング | 2024年 2月15日 |
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2024-507675 2024-507688 2024-507802 2024-507833 2024-507450 2024-507455 2024-507507 2024-507524 2024-507525 2024-507335 2024-507345 2024-506813 2024-506866 2024-506871 2024-506923
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2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
2月7日(金) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月10日(月) -
2月12日(水) -
2月13日(木) - 岐阜 大垣市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月13日(木) - 神奈川 綾瀬市
2月13日(木) -
2月13日(木) -
2月14日(金) - 東京 大田
<エンジニア(技術者)および研究開発担当(R&D部門)向け> 基礎から学ぶ/自分で行うIPランドスケープ®の活用・実践 <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月14日(金) - 東京 千代田区
2月10日(月) -
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