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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2024-510872	統合型エピタキシ及び前洗浄システム	2024年 3月12日
特表 2024-511195	適用体積内へのボトムパージの侵入を防止し、ヒータ下のガス拡散を処理するハードウェア	2024年 3月12日
特表 2024-511201	その場での均一な洗浄及び堆積	2024年 3月12日
特表 2024-510791	基板処理チャンバ用の洗浄アセンブリ	2024年 3月11日
特表 2024-510567	金属シャフトを用いた静電チャック	2024年 3月 8日
特表 2024-510568	プロセスチャンバ健康状態モニタリングおよび仮想モデルを使用した診断のためのシステムおよび方法	2024年 3月 8日
特表 2024-510611	物理気相堆積（ＰＶＤ）チャンバにおける粒子を低減する方法	2024年 3月 8日
特表 2024-510657	基板を処理するための方法及び装置	2024年 3月 8日
特表 2024-510662	基板を処理するための方法及び装置	2024年 3月 8日
特表 2024-510364	エピタキシチャンバ及びＣＶＤチャンバのためのガスインジェクタ	2024年 3月 7日
特表 2024-510365	エピタキシ処理チャンバにおける複数ゾーンランプ加熱及び温度監視	2024年 3月 7日
特表 2024-510410	機械学習を使用した堆積膜のための濃度プロファイルの制御	2024年 3月 7日
特表 2024-510075	結晶厚さマイクロバランシングセンサのその場ＥＰＩ成長速度制御	2024年 3月 6日
特表 2024-510077	インシトゥ膜成長のセンサアセンブリ、装置及び方法	2024年 3月 6日
特表 2024-510171	温度制御装置を有する原子状酸素及びオゾン洗浄装置	2024年 3月 6日

606 件中 466-480 件を表示

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2024-510872 2024-511195 2024-511201 2024-510791 2024-510567 2024-510568 2024-510611 2024-510657 2024-510662 2024-510364 2024-510365 2024-510410 2024-510075 2024-510077 2024-510171

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