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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2024-509637	シリコン含有光学デバイス構造を有する遷移金属ジカルコゲナイドでコーティングされた平面光学デバイス	2024年 3月 4日
特表 2024-509159	ＣＭＰにおける温度制御された除去速度	2024年 2月29日
特表 2024-509181	位置特異的ウエハ研磨用のローラ	2024年 2月29日
特開 2024-26099	薄膜トランジスタ用の窒素リッチな窒化ケイ素膜	2024年 2月28日
特開 2024-26110	リチウムアノードデバイススタック製造	2024年 2月28日
特開 2024-26171	ファクトリインターフェースの環境制御を伴う基板処理のシステム、装置、及び方法	2024年 2月28日
特開 2024-26240	マルチ深度光学デバイスのパターニング	2024年 2月28日
特表 2024-508640	双極子膜を用いたＭＯＳＦＥＴゲートエンジニアリング	2024年 2月28日
特表 2024-508663	切替可能なマッチ及び周波数チューニングを含むＲＦ電力供給構造	2024年 2月28日
特表 2024-508711	連続プラズマ及び熱処理	2024年 2月28日
特表 2024-508786	低抵抗率のＤＲＡＭ埋め込みワード線スタック	2024年 2月28日
特表 2024-508835	粉末の表面コーティングによる、導電性材料のマイクロ構造制御	2024年 2月28日
特表 2024-508912	サブトラクティブ金属及びサブトラクティブ金属半導体	2024年 2月28日
特表 2024-508913	保持リングを分類するための機械学習	2024年 2月28日
特表 2024-508932	基板歳差運動を伴う基板研磨のための処理パラメータの制御	2024年 2月28日

606 件中 496-510 件を表示

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2024-509637 2024-509159 2024-509181 2024-26099 2024-26110 2024-26171 2024-26240 2024-508640 2024-508663 2024-508711 2024-508786 2024-508835 2024-508912 2024-508913 2024-508932

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