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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2024-502996	モリブデン膜堆積用のアレーンモリブデン（０）前駆体	2024年 1月24日
特表 2024-502998	モリブデン膜の堆積のためのモリブデン（ＩＶ）及びモリブデン（ＩＩＩ）前駆体	2024年 1月24日
特表 2024-503005	モリブデン膜堆積のためのシクロヘプタトリエンモリブデン（０）前駆体	2024年 1月24日
特開 2024-10121	プロセスキットリング摩耗の検出器	2024年 1月23日
特表 2024-502835	レシピ動作におけるプロセス流体経路の切り替え	2024年 1月23日
特表 2024-502610	低誘電率の炭窒化ホウ素膜	2024年 1月22日
特表 2024-502274	物理気相堆積によるフォトレジスト	2024年 1月18日
特表 2024-501978	基板を処理するための方法及び装置	2024年 1月17日
特表 2024-501997	画像センサの形成方法	2024年 1月17日
特表 2024-501446	ウェブエッジ計測法	2024年 1月12日
特表 2024-500751	フォトレジストの露光後ベークのための装置	2024年 1月10日
特表 2024-500753	水平予洗浄モジュール用のパッドキャリア	2024年 1月10日
特表 2024-500759	フォトレジストとして使用される炭素ドープされた金属酸化物の気相堆積	2024年 1月10日
特表 2024-500760	低温でのケイ素含有膜のプラズマ強化堆積	2024年 1月10日
特表 2024-500761	磁場が印加された化学機械研磨	2024年 1月10日

606 件中 586-600 件を表示

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2024-502996 2024-502998 2024-503005 2024-10121 2024-502835 2024-502610 2024-502274 2024-501978 2024-501997 2024-501446 2024-500751 2024-500753 2024-500759 2024-500760 2024-500761

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