特許ランキング - 出願人詳細情報 -

カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

※ ログインすれば出願人(カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2024年出願公開件数ランキング　　　第471位　59件（2023年：第628位　47件）

　■　2024年特許取得件数ランキング　　　第515位　46件（2023年：第631位　40件）

（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年

カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2024-522609	結像光学ユニット	2024年 6月21日
特表 2024-522772	マイクロリソグラフィフォトマスクの欠陥の粒子ビーム誘起処理のための方法および装置	2024年 6月21日
特表 2024-521782	光学装置、目標変形を設定する方法、及びリソグラフィシステム	2024年 6月 4日
特表 2024-521841	投影露光装置及び投影露光装置のコンポーネントを設計する方法	2024年 6月 4日
特表 2024-518810	マイクロリソグラフィのマスクの特性評価方法および装置	2024年 5月 2日
特開 2024-59661	計測光に関する物体の反射率を計測するための方法およびその方法を実行するための計量システム	2024年 5月 1日
特表 2024-518654	光学装置、目標変形を調整する方法、及びリソグラフィシステム	2024年 5月 1日
特表 2024-516176	高アスペクト比構造のセグメンテーションまたは断面	2024年 4月12日
特表 2024-515572	少なくとも１つの層を堆積させる方法及び装置、光学素子、及び光学装置	2024年 4月10日
特開 2024-48392	リソグラフィシステムのマスクを認定するための方法および装置	2024年 4月 8日
特開 2024-41739	メッシュ完全性検査	2024年 3月27日
特表 2024-513134	リソグラフィシステムのミラーを製造する方法	2024年 3月21日
特表 2024-513135	マイクロリソグラフィ投影露光装置のミラーを製造する方法。	2024年 3月21日
特表 2024-511398	ファセットシステム及びリソグラフィ装置	2024年 3月13日
特表 2024-511446	リソグラフィ投影露光装置のための光学システム	2024年 3月13日

59 件中 31-45 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2024-522609 2024-522772 2024-521782 2024-521841 2024-518810 2024-59661 2024-518654 2024-516176 2024-515572 2024-48392 2024-41739 2024-513134 2024-513135 2024-511398 2024-511446

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数