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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2024-127861	測定チャンバにおける配置のためのセンサー構成体、マスクを適切なものにするための装置、およびマスクを適切なものにするための方法	2024年 9月20日
特表 2024-533994	マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明装置で特に用いる光学コンポーネント群	2024年 9月18日
特開 2024-125209	ペルチェモジュール、アセンブリ、マスク検査用の装置	2024年 9月13日
特開 2024-125210	フォトマスクを検査するための方法ならびに測定デバイスおよびＥＵＶカメラ	2024年 9月13日
特表 2024-531989	集束粒子ビームを使用してサンプルの欠陥を修復するための方法および装置	2024年 9月 3日
特開 2024-112778	測定装置、マスク計測測定装置を動作させるための方法、およびコンピュータプログラム製品	2024年 8月21日
特表 2024-530453	リソグラフィマスクのために用いられる蒸着材料の光学特性を決定するための方法および装置	2024年 8月21日
特表 2024-530044	粒子ビームを用いてサンプルを分析および／または処理するための装置および方法	2024年 8月14日
特表 2024-529123	投影露光システム及び接着剤層を設計する方法	2024年 8月 1日
特表 2024-524956	マウント装置、リソグラフィ装置、及びマウント装置を製造する方法	2024年 7月 9日
特表 2024-523889	オブジェクトの表面を処理するための方法、装置、およびコンピュータプログラム	2024年 7月 2日
特表 2024-523896	外側層を堆積させる方法、ＥＵＶ波長域用の反射光学素子、及びＥＵＶリソグラフィシステム	2024年 7月 2日
特表 2024-522609	結像光学ユニット	2024年 6月21日
特表 2024-522772	マイクロリソグラフィフォトマスクの欠陥の粒子ビーム誘起処理のための方法および装置	2024年 6月21日
特表 2024-521782	光学装置、目標変形を設定する方法、及びリソグラフィシステム	2024年 6月 4日

56 件中 16-30 件を表示

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2024-127861 2024-533994 2024-125209 2024-125210 2024-531989 2024-112778 2024-530453 2024-530044 2024-529123 2024-524956 2024-523889 2024-523896 2024-522609 2024-522772 2024-521782

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