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ケーエルエー−テンカー コーポレイション

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  2024年 出願公開件数ランキング    第298位 100件 上昇2023年:第332位 104件)

  2024年 特許取得件数ランキング    第294位 93件 上昇2023年:第345位 92件)

(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2024-524856 試料の検査のためのケア領域の設定 2024年 7月 9日
特表 2024-523958 パターンウエハ形状測定上の検出支援2段階位相アンラッピング 2024年 7月 5日
特開 2024-88667 電子ビーム計測の系統誤差低減方法及びシステム 2024年 7月 2日
特開 2024-88743 円筒対称要素上を覆うターゲット素材を有するレーザ生成プラズマ光源 2024年 7月 2日
特表 2024-523095 鉄トライアド金属及びその合金の電着溶液中のハロゲン化物濃度を測定及び監視するための無試薬方法及びプロセス制御 2024年 6月28日
特表 2024-523051 極端紫外線検査システムにおける汚染を軽減するための対向流ガスノズル 2024年 6月26日
特表 2024-522044 二次電子および後方散乱電子を検出するためのスルーホールを備えた分割型マルチチャンネル裏面照射型ソリッドステート検出器 2024年 6月11日
特表 2024-522045 画像アップサンプリングを伴う光学的ウェハ特性評価のシステムおよび方法 2024年 6月11日
特開 2024-74838 オーバレイ計量の性能拡張 2024年 5月31日
特表 2024-521276 高圧レーザー維持プラズマランプの製造方法 2024年 5月31日
特開 2024-69374 計測システム及び計測方法 2024年 5月21日
特表 2024-519645 高抵抗率試験試料を測定する方法 2024年 5月21日
特表 2024-519648 インライン欠陥部分平均試験を使用する適応的半導体試験のためのシステムおよび方法 2024年 5月21日
特表 2024-519569 検査ツールにおける側方剪断干渉測定のシステムおよび方法 2024年 5月17日
特表 2024-518226 マルチ分解能オーバーレイ計測ターゲット 2024年 5月 1日

100 件中 46-60 件を表示

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2024-524856 2024-523958 2024-88667 2024-88743 2024-523095 2024-523051 2024-522044 2024-522045 2024-74838 2024-521276 2024-69374 2024-519645 2024-519648 2024-519569 2024-518226

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