特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ケーエルエー−テンカー　コーポレイション

※ ログインすれば出願人(ケーエルエー−テンカー　コーポレイション)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2024年出願公開件数ランキング　　　第302位　95件（2023年：第332位　104件）

　■　2024年特許取得件数ランキング　　　第298位　86件（2023年：第345位　92件）

（ランキング更新日：2024年11月10日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年

ケーエルエー−テンカー　コーポレイションの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2024-523051	極端紫外線検査システムにおける汚染を軽減するための対向流ガスノズル	2024年 6月26日
特表 2024-522044	二次電子および後方散乱電子を検出するためのスルーホールを備えた分割型マルチチャンネル裏面照射型ソリッドステート検出器	2024年 6月11日
特表 2024-522045	画像アップサンプリングを伴う光学的ウェハ特性評価のシステムおよび方法	2024年 6月11日
特開 2024-74838	オーバレイ計量の性能拡張	2024年 5月31日
特表 2024-521276	高圧レーザー維持プラズマランプの製造方法	2024年 5月31日
特開 2024-69374	計測システム及び計測方法	2024年 5月21日
特表 2024-519645	高抵抗率試験試料を測定する方法	2024年 5月21日
特表 2024-519648	インライン欠陥部分平均試験を使用する適応的半導体試験のためのシステムおよび方法	2024年 5月21日
特表 2024-519569	検査ツールにおける側方剪断干渉測定のシステムおよび方法	2024年 5月17日
特表 2024-518226	マルチ分解能オーバーレイ計測ターゲット	2024年 5月 1日
特表 2024-518237	オーバーレイ計測用の傾斜照明	2024年 5月 1日
特表 2024-517545	高スループットのマルチ電子ビームシステム	2024年 4月23日
特表 2024-517052	熱膨張によるミスマッチの緩和するプロセス状態検出装置および方法	2024年 4月19日
特表 2024-517055	半導体デバイスウエハのための改良されたメトロロジーについてのシステムおよび方法	2024年 4月19日
特表 2024-516921	製品上オーバレイターゲット	2024年 4月18日

95 件中 46-60 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2024-523051 2024-522044 2024-522045 2024-74838 2024-521276 2024-69374 2024-519645 2024-519648 2024-519569 2024-518226 2024-518237 2024-517545 2024-517052 2024-517055 2024-516921

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ケーエルエー−テンカー　コーポレイションの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数