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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第302位 95件 (2023年:第332位 104件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第298位 86件 (2023年:第345位 92件)
(ランキング更新日:2024年11月10日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2024-508638 | 製造設備における機器のセキュア遠隔コラボレーション | 2024年 2月28日 | |
特表 2024-508382 | 感受性粒子を検出するための連続縮退楕円リターダ | 2024年 2月27日 | |
特表 2024-508231 | 高解像度の3次元撮像 | 2024年 2月26日 | |
特表 2024-508233 | プラズマ原子層堆積を用い堆積された硼素層を有する裏面照明型センサ | 2024年 2月26日 | |
特開 2024-23684 | 電子ビーム検査システム及び方法 | 2024年 2月21日 | |
特開 2024-20433 | 光学計測のための高輝度の照明源 | 2024年 2月14日 | |
特表 2024-506404 | EUVマスク検査のための方法および装置 | 2024年 2月13日 | |
特開 2024-19566 | X線スキャトロメトリシステムのフルビーム計測 | 2024年 2月 9日 | |
特表 2024-506143 | デュアル真空シール | 2024年 2月 9日 | |
特開 2024-19227 | プロセス条件計測ウェハアセンブリ向けのシステム及び方法 | 2024年 2月 8日 | |
特表 2024-505926 | デュアルアパーチャ方式の高解像度電子ビーム装置 | 2024年 2月 8日 | |
特表 2024-505941 | 歪んだ形状を有する深部構造の正確な測定のための方法およびシステム | 2024年 2月 8日 | |
特表 2024-505557 | 補正板を使用した光学システムの収差及びアポダイゼーションの補正 | 2024年 2月 6日 | |
特表 2024-503371 | プロセス条件検知装置 | 2024年 1月25日 | |
特表 2024-502549 | 広帯域光の連続生成のためのレーザおよびドラム制御 | 2024年 1月22日 |
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2024-508638 2024-508382 2024-508231 2024-508233 2024-23684 2024-20433 2024-506404 2024-19566 2024-506143 2024-19227 2024-505926 2024-505941 2024-505557 2024-503371 2024-502549
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