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東京エレクトロン株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第61位 616件
（
2015年：第56位 677件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第49位 561件
（
2015年：第51位 433件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6009171 | 基板処理装置 | 2016年10月19日 | |
| 特許 6009858 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2016年10月19日 | |
| 特許 6010161 | アモルファスシリコン膜の成膜方法および成膜装置 | 2016年10月19日 | |
| 特許 6010296 | 静電チャック | 2016年10月19日 | |
| 特許 6010305 | 誘導結合プラズマ用アンテナユニット、誘導結合プラズマ処理装置および誘導結合プラズマ処理方法 | 2016年10月19日 | |
| 特許 6010387 | 半導体装置を形成するための方法 | 2016年10月19日 | |
| 特許 6010406 | マイクロ波放射機構、マイクロ波プラズマ源および表面波プラズマ処理装置 | 2016年10月19日 | |
| 特許 6010433 | 基板載置台および基板処理装置 | 2016年10月19日 | |
| 特許 6010451 | 成膜方法 | 2016年10月19日 | |
| 特許 6010457 | 液処理装置および薬液回収方法 | 2016年10月19日 | |
| 特許 6011323 | 基板洗浄装置、基板洗浄方法及び記憶媒体 | 2016年10月19日 | |
| 特許 6011417 | 成膜装置、基板処理装置及び成膜方法 | 2016年10月19日 | |
| 特許 6011420 | 縦型熱処理装置の運転方法、縦型熱処理装置及び記憶媒体 | 2016年10月19日 | |
| 特許 6005549 | 加熱処理装置及び加熱処理方法 | 2016年10月12日 | |
| 特許 6005588 | 液処理装置 | 2016年10月12日 |
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6009171 6009858 6010161 6010296 6010305 6010387 6010406 6010433 6010451 6010457 6011323 6011417 6011420 6005549 6005588
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