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東京エレクトロン株式会社
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第83位 585件
（
2016年：第61位 616件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第66位 431件
（2016年：第49位 561件）
（ランキング更新日：2025年9月12日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6120791 | 剥離方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体、剥離装置及び剥離システム | 2017年 4月26日 | |
| 特許 6121299 | 自動培養システム及び自動培養装置 | 2017年 4月26日 | |
| 特許 6121348 | めっきの前処理方法、記憶媒体およびめっき処理システム | 2017年 4月26日 | |
| 特許 6121349 | 希釈薬液供給装置、基板液処理装置及び流量制御方法 | 2017年 4月26日 | |
| 特許 6122666 | ホッパー及び溶射装置 | 2017年 4月26日 | |
| 特許 6122790 | 剥離装置および剥離システム | 2017年 4月26日 | |
| 特許 6115244 | 成膜装置 | 2017年 4月19日 | |
| 特許 6117041 | 液処理方法、液処理装置および記憶媒体 | 2017年 4月19日 | |
| 特許 6117588 | Ｃｕ配線の形成方法 | 2017年 4月19日 | |
| 特許 6117724 | 塗布装置および塗布方法 | 2017年 4月19日 | |
| 特許 6117763 | プラズマ処理装置 | 2017年 4月19日 | |
| 特許 6118102 | 基板位置検出装置及びこれを用いた基板処理装置、成膜装置 | 2017年 4月19日 | |
| 特許 6118149 | ルテニウム膜の形成方法および記憶媒体 | 2017年 4月19日 | |
| 特許 6118197 | 成膜方法 | 2017年 4月19日 | |
| 特許 6118451 | 基板洗浄および乾燥のための方法および装置 | 2017年 4月19日 |
440 件中 271-285 件を表示
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6120791 6121299 6121348 6121349 6122666 6122790 6115244 6117041 6117588 6117724 6117763 6118102 6118149 6118197 6118451
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