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東京エレクトロン株式会社
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第83位 585件
（
2016年：第61位 616件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第66位 431件
（2016年：第49位 561件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6114668 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2017年 4月12日 | |
| 特許 6114708 | 基板脱離検出装置及び基板脱離検出方法、並びにこれらを用いた基板処理装置及び基板処理方法 | 2017年 4月12日 | |
| 特許 6106501 | 収納容器内の雰囲気管理方法 | 2017年 4月 5日 | |
| 特許 6106519 | 基板処理方法、プログラム、制御装置、成膜装置及び基板処理システム | 2017年 4月 5日 | |
| 特許 6106541 | リークチェック方法及び処理装置 | 2017年 4月 5日 | |
| 特許 6107327 | 成膜装置及びガス供給装置並びに成膜方法 | 2017年 4月 5日 | |
| 特許 6107690 | フィルタユニットの前処理方法、処理液供給装置、フィルタユニットの加熱装置 | 2017年 4月 5日 | |
| 特許 6107742 | 熱処理装置、熱処理方法及び記憶媒体 | 2017年 4月 5日 | |
| 特許 6109772 | 分離再生装置および基板処理装置 | 2017年 4月 5日 | |
| 特許 6110292 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2017年 4月 5日 | |
| 特許 6110848 | ガス処理方法 | 2017年 4月 5日 | |
| 特許 6111171 | 成膜方法及び成膜装置 | 2017年 4月 5日 | |
| 特許 6102807 | 基板洗浄装置、基板洗浄方法及び記憶媒体 | 2017年 3月29日 | |
| 特許 6103104 | 成膜装置 | 2017年 3月29日 | |
| 特許 6104700 | 接合方法、接合装置および接合システム | 2017年 3月29日 |
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6114668 6114708 6106501 6106519 6106541 6107327 6107690 6107742 6109772 6110292 6110848 6111171 6102807 6103104 6104700
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