特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2017年出願公開件数ランキング　　　第83位　585件（2016年：第61位　616件）

　■　2017年特許取得件数ランキング　　　第66位　431件（2016年：第49位　561件）

（ランキング更新日：2025年2月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6118689	基板液処理装置及び基板液処理方法並びに基板液処理プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体	2017年 4月19日
特許 6118719	基板処理装置及び基板処理方法並びに基板処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体	2017年 4月19日
特許 6118739	基板液処理装置及び基板液処理方法並びに基板液処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体	2017年 4月19日
特許 6118758	基板処理装置及び基板処理方法並びに基板処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体	2017年 4月19日
特許 6118922	剥離装置、剥離システムおよび剥離方法	2017年 4月19日
特許 6112620	電子デバイスパターンの印刷装置及びその印刷方法	2017年 4月12日
特許 6113626	プラズマ処理装置	2017年 4月12日
特許 6113670	基板処理装置、その運用方法及び記憶媒体	2017年 4月12日
特許 6114060	基板搬送装置、基板受渡位置確認方法及び基板処理システム	2017年 4月12日
特許 6114270	電界によりパターン及び構造形成を制御する方法及びデバイス	2017年 4月12日
特許 6114370	基板処理装置及びその制御方法	2017年 4月12日
特許 6114525	酸化ルテニウム膜の成膜方法	2017年 4月12日
特許 6114622	エッチング方法	2017年 4月12日
特許 6114629	回転可能状態検出装置及び回転可能状態検出方法、並びにこれを用いた基板処理装置及び基板処理方法	2017年 4月12日
特許 6114636	乾燥装置及び乾燥処理方法	2017年 4月12日

440 件中 286-300 件を表示

... 20

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

6118689 6118719 6118739 6118758 6118922 6112620 6113626 6113670 6114060 6114270 6114370 6114525 6114622 6114629 6114636

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数