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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第83位 585件
(2016年:第61位 616件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第66位 431件
(2016年:第49位 561件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6118689 | 基板液処理装置及び基板液処理方法並びに基板液処理プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 | 2017年 4月19日 | |
特許 6118719 | 基板処理装置及び基板処理方法並びに基板処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2017年 4月19日 | |
特許 6118739 | 基板液処理装置及び基板液処理方法並びに基板液処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2017年 4月19日 | |
特許 6118758 | 基板処理装置及び基板処理方法並びに基板処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2017年 4月19日 | |
特許 6118922 | 剥離装置、剥離システムおよび剥離方法 | 2017年 4月19日 | |
特許 6112620 | 電子デバイスパターンの印刷装置及びその印刷方法 | 2017年 4月12日 | |
特許 6113626 | プラズマ処理装置 | 2017年 4月12日 | |
特許 6113670 | 基板処理装置、その運用方法及び記憶媒体 | 2017年 4月12日 | |
特許 6114060 | 基板搬送装置、基板受渡位置確認方法及び基板処理システム | 2017年 4月12日 | |
特許 6114270 | 電界によりパターン及び構造形成を制御する方法及びデバイス | 2017年 4月12日 | |
特許 6114370 | 基板処理装置及びその制御方法 | 2017年 4月12日 | |
特許 6114525 | 酸化ルテニウム膜の成膜方法 | 2017年 4月12日 | |
特許 6114622 | エッチング方法 | 2017年 4月12日 | |
特許 6114629 | 回転可能状態検出装置及び回転可能状態検出方法、並びにこれを用いた基板処理装置及び基板処理方法 | 2017年 4月12日 | |
特許 6114636 | 乾燥装置及び乾燥処理方法 | 2017年 4月12日 |
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6118689 6118719 6118739 6118758 6118922 6112620 6113626 6113670 6114060 6114270 6114370 6114525 6114622 6114629 6114636
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