特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2021年出願公開件数ランキング　　　第33位　878件（2020年：第43位　773件）

　■　2021年特許取得件数ランキング　　　第45位　515件（2020年：第54位　436件）

（ランキング更新日：2025年1月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6919019	接合装置、および接合方法	2021年 8月11日
特許 6913498	流量制御器の出力流量を求める方法及び被処理体を処理する方法	2021年 8月 4日
特許 6913569	被処理体を処理する方法	2021年 8月 4日
特許 6914050	基板処理装置	2021年 8月 4日
特許 6914062	基板処理装置および基板処理方法	2021年 8月 4日
特許 6914107	ボロン膜の除去方法	2021年 8月 4日
特許 6914111	基板処理方法、基板処理装置、基板処理システムおよび基板処理システムの制御装置	2021年 8月 4日
特許 6914143	基板処理方法、基板処理装置、基板処理システム、基板処理システムの制御装置および半導体基板の製造方法	2021年 8月 4日
特許 6914149	プラズマ処理装置	2021年 8月 4日
特許 6915498	ノズル待機装置、液処理装置及び液処理装置の運転方法並びに記憶媒体	2021年 8月 4日
特許 6908757	接合装置、接合システム、接合方法及びコンピュータ記憶媒体	2021年 7月28日
特許 6909374	光増感化学又は感光性化学増幅レジストを用いた限界寸法制御	2021年 7月28日
特許 6909617	減圧乾燥装置	2021年 7月28日
特許 6909854	塗布処理装置、塗布処理方法及びコンピュータ記憶媒体	2021年 7月28日
特許 6910118	成膜方法および成膜システム、ならびに表面処理方法	2021年 7月28日

520 件中 226-240 件を表示

... 16

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

6919019 6913498 6913569 6914050 6914062 6914107 6914111 6914143 6914149 6915498 6908757 6909374 6909617 6909854 6910118

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数