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東京エレクトロン株式会社
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第33位 878件
（
2020年：第43位 773件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第45位 515件
（2020年：第54位 436件）
（ランキング更新日：2025年9月11日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6919019 | 接合装置、および接合方法 | 2021年 8月11日 | |
| 特許 6913498 | 流量制御器の出力流量を求める方法及び被処理体を処理する方法 | 2021年 8月 4日 | |
| 特許 6913569 | 被処理体を処理する方法 | 2021年 8月 4日 | |
| 特許 6914050 | 基板処理装置 | 2021年 8月 4日 | |
| 特許 6914062 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2021年 8月 4日 | |
| 特許 6914107 | ボロン膜の除去方法 | 2021年 8月 4日 | |
| 特許 6914111 | 基板処理方法、基板処理装置、基板処理システムおよび基板処理システムの制御装置 | 2021年 8月 4日 | |
| 特許 6914143 | 基板処理方法、基板処理装置、基板処理システム、基板処理システムの制御装置および半導体基板の製造方法 | 2021年 8月 4日 | |
| 特許 6914149 | プラズマ処理装置 | 2021年 8月 4日 | |
| 特許 6915498 | ノズル待機装置、液処理装置及び液処理装置の運転方法並びに記憶媒体 | 2021年 8月 4日 | |
| 特許 6908757 | 接合装置、接合システム、接合方法及びコンピュータ記憶媒体 | 2021年 7月28日 | |
| 特許 6909374 | 光増感化学又は感光性化学増幅レジストを用いた限界寸法制御 | 2021年 7月28日 | |
| 特許 6909617 | 減圧乾燥装置 | 2021年 7月28日 | |
| 特許 6909854 | 塗布処理装置、塗布処理方法及びコンピュータ記憶媒体 | 2021年 7月28日 | |
| 特許 6910118 | 成膜方法および成膜システム、ならびに表面処理方法 | 2021年 7月28日 |
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6919019 6913498 6913569 6914050 6914062 6914107 6914111 6914143 6914149 6915498 6908757 6909374 6909617 6909854 6910118
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