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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第41位 605件 (2023年:第32位 708件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第47位 555件 (2023年:第80位 398件)
(ランキング更新日:2025年1月29日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2024-515762 | エッチングパラメータを測定するための複数リフレクトメトリ | 2024年 4月10日 | |
特表 2024-515860 | アモルファスシリコンエッチング保護ライナの堆積プロセス | 2024年 4月10日 | |
特表 2024-515287 | 基板およびシャドウリングを共通に上昇させる装置 | 2024年 4月 8日 | |
特開 2024-45095 | 半導体装置及びクリーンルーム内の化学ガス汚染物質を測定するためのポータブルディスク | 2024年 4月 2日 | |
特表 2024-514383 | 電界誘導される露光後ベークプロセス用のプロセスセル | 2024年 4月 2日 | |
特表 2024-514385 | 基板上に印刷されたインクを硬化させるための装置、システム及び方法 | 2024年 4月 2日 | |
特表 2024-514524 | プラズマを使用した薄膜形成のグランドリターン | 2024年 4月 2日 | |
特表 2024-514563 | 電極表面の前処理及び後処理 | 2024年 4月 2日 | |
特表 2024-514670 | 高温シャワーヘッドの製造 | 2024年 4月 2日 | |
特表 2024-514678 | モリブデン膜の堆積のためのモリブデン(0)前駆体 | 2024年 4月 2日 | |
特表 2024-514679 | 材料堆積装置、基板上に材料を堆積する方法、および材料堆積システム | 2024年 4月 2日 | |
特表 2024-514139 | 処理チャンバ用の改良されたアイソレータ | 2024年 3月28日 | |
特表 2024-514140 | マスク洗浄用シュラウド付き焼成チャンバ | 2024年 3月28日 | |
特表 2024-514147 | 半導体製造のための環境効率(持続可能性)ダッシュボード | 2024年 3月28日 | |
特開 2024-41772 | ペデスタル用のRF接地構成 | 2024年 3月27日 |
606 件中 421-435 件を表示
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2024-515762 2024-515860 2024-515287 2024-45095 2024-514383 2024-514385 2024-514524 2024-514563 2024-514670 2024-514678 2024-514679 2024-514139 2024-514140 2024-514147 2024-41772
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1月29日(水) - 東京 港区
1月29日(水) - 東京 港区
1月29日(水) - 東京 品川区
1月29日(水) -
1月29日(水) -
1月29日(水) -
1月30日(木) -
1月30日(木) -
1月30日(木) -
1月30日(木) - 東京 港区
1月31日(金) -
1月29日(水) - 東京 港区
2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
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