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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第41位 605件
（
2023年：第32位 708件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第47位 555件
（
2023年：第80位 398件）
（ランキング更新日：2024年12月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7567051 | レーザドリルを使用してチャンバ部品を製造する方法 | 2024年10月15日 | |
| 特許 7567057 | 上流プロセス制御のためのエッチングフィードバック | 2024年10月15日 | |
| 特許 7565918 | ３Ｄ ＮＡＮＤ用途のための膜積層体オーバーレイの改善 | 2024年10月11日 | |
| 特許 7565947 | 基板処理チャンバ | 2024年10月11日 | |
| 特許 7565984 | プロセスキットリングアダプタ | 2024年10月11日 | |
| 特許 7565266 | 輝度ヒストグラムを用いた残留物検知 | 2024年10月10日 | |
| 特許 7565375 | 被覆薬物組成物及びその調製方法 | 2024年10月10日 | |
| 特許 7565444 | アモルファスシリコン及び酸化による薄い酸化物層の成長 | 2024年10月10日 | |
| 特許 7564811 | 基板洗浄デバイス及び基板洗浄方法 | 2024年10月 9日 | |
| 特許 7564968 | マスク材料のプラズマエッチング | 2024年10月 9日 | |
| 特許 7564123 | 処理チャンバ内でのプラズマの高密度化 | 2024年10月 8日 | |
| 特許 7564237 | マルチゾーン半導体基板支持体 | 2024年10月 8日 | |
| 特許 7564338 | 気相粒子低減のための装置及び方法 | 2024年10月 8日 | |
| 特許 7564346 | 単一ウエハ上に集積された三色光源 | 2024年10月 8日 | |
| 特許 7562569 | 化学機械研磨システムのための水蒸気処理ステーション | 2024年10月 7日 |
555 件中 121-135 件を表示
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7567051 7567057 7565918 7565947 7565984 7565266 7565375 7565444 7564811 7564968 7564123 7564237 7564338 7564346 7562569
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