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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

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  2024年 出願公開件数ランキング    第41位 605件 下降2023年:第32位 708件)

  2024年 特許取得件数ランキング    第47位 555件 上昇2023年:第80位 398件)

(ランキング更新日:2025年12月15日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 7583148 裏側ビア露出処理のための方法および装置 2024年11月13日
特許 7580386 熱酸化品質が高い厚い酸化膜を低温で成長させる方法 2024年11月11日
特許 7580465 ALD前駆体送達用シャワーヘッド 2024年11月11日
特許 7580540 PECVDによるSIギャップ充填の方法 2024年11月11日
特許 7580543 化学機械研磨のためのテクスチャード加工された小型パッド 2024年11月11日
特許 7580565 広角イオンビームのための可変抽出アセンブリ 2024年11月11日
特許 7580574 真空下でフローコンダクタンスを変化させるためのバルブ 2024年11月11日
特許 7580619 半導体チャンバ部品を洗浄するための高圧洗浄方法及び装置 2024年11月11日
特許 7579791 基板を処理する方法 2024年11月 8日
特許 7579475 変形可能な基板チャック 2024年11月 7日
特許 7578664 交換可能なインターフェースプレートを有する再構成可能なメインフレーム 2024年11月 6日
特許 7578716 EPIチャンバのためのインシトゥ温度マッピング 2024年11月 6日
特許 7578724 高温真空分離処理ミニ環境 2024年11月 6日
特許 7577449 3D-NANDデバイスでのワードライン分離のための方法 2024年11月 5日
特許 7577744 独立したイオン源及びラジカル源を使用した基板処理のための装置及び技法 2024年11月 5日

555 件中 76-90 件を表示

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7583148 7580386 7580465 7580540 7580543 7580565 7580574 7580619 7579791 7579475 7578664 7578716 7578724 7577449 7577744

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