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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第41位 605件
(2023年:第32位 708件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第47位 555件
(2023年:第80位 398件)
(ランキング更新日:2025年10月16日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7583148 | 裏側ビア露出処理のための方法および装置 | 2024年11月13日 | |
特許 7580386 | 熱酸化品質が高い厚い酸化膜を低温で成長させる方法 | 2024年11月11日 | |
特許 7580465 | ALD前駆体送達用シャワーヘッド | 2024年11月11日 | |
特許 7580540 | PECVDによるSIギャップ充填の方法 | 2024年11月11日 | |
特許 7580543 | 化学機械研磨のためのテクスチャード加工された小型パッド | 2024年11月11日 | |
特許 7580565 | 広角イオンビームのための可変抽出アセンブリ | 2024年11月11日 | |
特許 7580574 | 真空下でフローコンダクタンスを変化させるためのバルブ | 2024年11月11日 | |
特許 7580619 | 半導体チャンバ部品を洗浄するための高圧洗浄方法及び装置 | 2024年11月11日 | |
特許 7579791 | 基板を処理する方法 | 2024年11月 8日 | |
特許 7579475 | 変形可能な基板チャック | 2024年11月 7日 | |
特許 7578664 | 交換可能なインターフェースプレートを有する再構成可能なメインフレーム | 2024年11月 6日 | |
特許 7578716 | EPIチャンバのためのインシトゥ温度マッピング | 2024年11月 6日 | |
特許 7578724 | 高温真空分離処理ミニ環境 | 2024年11月 6日 | |
特許 7577449 | 3D-NANDデバイスでのワードライン分離のための方法 | 2024年11月 5日 | |
特許 7577744 | 独立したイオン源及びラジカル源を使用した基板処理のための装置及び技法 | 2024年11月 5日 |
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7583148 7580386 7580465 7580540 7580543 7580565 7580574 7580619 7579791 7579475 7578664 7578716 7578724 7577449 7577744
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ビジネスの実務で役立つ技術契約の基礎知識と実例 ~秘密保持契約、共同研究開発、共同出願契約、製造委託契約、特許ライセンス契約~
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日常実務の疑問点に答える著作権(周辺領域の商標・不正競争防止法を含む)に関するQ&A~日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Q&A形式で平易に解説~
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