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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第501位 77件
(2016年:第366位 102件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第394位 68件
(2016年:第337位 92件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6168614 | マイクロリソグラフィのためのマスク及び走査投影露光方法 | 2017年 7月26日 | |
特許 6170564 | マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明システム | 2017年 7月26日 | |
特許 6164558 | 高電力レーザ光源からターゲット上への放射線のフォーカス誘導のためのビーム誘導系及びレーザ光源とそのようなビーム誘導系とを有するLPP X線ビーム源 | 2017年 7月19日 | |
特許 6166257 | EUVリソグラフィ用の反射光学素子及び光学系 | 2017年 7月19日 | |
特許 6162684 | マイクロリソグラフィ投影露光装置内の要素を作動させるための設備 | 2017年 7月12日 | |
特許 6159013 | 光ビームの偏光状態を空間的に分離するための偏光子アセンブリ | 2017年 7月 5日 | |
特許 6159334 | 安定した組成を有する酸窒化物キャッピング層を備えたEUVミラー、EUVリソグラフィ装置、及び作動方法 | 2017年 7月 5日 | |
特許 6154808 | 振動遮断支持ユニットを有する光学結像装置 | 2017年 6月28日 | |
特許 6151364 | ミラー素子の配向を決定する監視系およびEUVリソグラフィシステム | 2017年 6月21日 | |
特許 6146745 | 入射光ビームを変換するための光学配置、光ビームをラインフォーカスに変換する方法、及びそのための光学デバイス | 2017年 6月14日 | |
特許 6146918 | 結像光学系及びこの種の結像光学系を含むマイクロリソグラフィ用の投影露光装置 | 2017年 6月14日 | |
特許 6147924 | マイクロリソグラフィ投影装置を作動させる方法 | 2017年 6月14日 | |
特許 6137179 | マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系及びマイクロリソグラフィ露光方法 | 2017年 5月31日 | |
特許 6137762 | マイクロリソグラフィ装置を作動させる方法 | 2017年 5月31日 | |
特許 6140074 | マイクロリソグラフィのための結像光学系 | 2017年 5月31日 |
69 件中 31-45 件を表示
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6168614 6170564 6164558 6166257 6162684 6159013 6159334 6154808 6151364 6146745 6146918 6147924 6137179 6137762 6140074
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