ホーム > 特許ランキング > カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー > 2017年 > 特許一覧
※ ログインすれば出願人(カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2017年 出願公開件数ランキング 第501位 77件 (2016年:第366位 102件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第394位 68件 (2016年:第337位 92件)
(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6227639 | EUV用途向け光学素子を冷却するための方法および冷却システム | 2017年11月 8日 | |
特許 6228985 | ミラー素子の傾動を調整するための方法及びコンポーネント | 2017年11月 8日 | |
特許 6221159 | コレクター | 2017年11月 1日 | |
特許 6221160 | ミラーの配置 | 2017年11月 1日 | |
特許 6222594 | マイクロリソグラフィ投影露光装置 | 2017年11月 1日 | |
特許 6214042 | EUVリソグラフィ系 | 2017年10月18日 | |
特許 6207530 | 光学コンポーネント | 2017年10月 4日 | |
特許 6209518 | マイクロリソグラフィ投影露光装置のミラーの熱作動用の構成体 | 2017年10月 4日 | |
特許 6204922 | 投影露光装置のための照明及び変位デバイス | 2017年 9月27日 | |
特許 6200489 | 磁歪材料を含む光学素子 | 2017年 9月20日 | |
特許 6193963 | マイクロリソグラフィ投影露光装置においてマスクを照明するための照明システム | 2017年 9月 6日 | |
特許 6186623 | マイクロリソグラフィ投影露光装置 | 2017年 8月30日 | |
特許 6186352 | マイクロリソグラフィ用の投影露光装置の光学素子を動かす方法 | 2017年 8月23日 | |
特許 6182224 | マイクロリソグラフィ投影対物レンズ | 2017年 8月16日 | |
特許 6176740 | 劣化抑制手段を備えた光学アセンブリ | 2017年 8月 9日 |
69 件中 16-30 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
6227639 6228985 6221159 6221160 6222594 6214042 6207530 6209518 6204922 6200489 6193963 6186623 6186352 6182224 6176740
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの知財の動向チェックに便利です。
11月22日(金) -
11月22日(金) - 東京 千代田区
11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
兵庫県西宮市上大市2丁目19 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 コンサルティング
〒220-0004 横浜市西区北幸1-11-15 横浜STビル8階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
大阪府大阪市西区靱本町1丁目10番4号 本町井出ビル2F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング