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ケーエルエー−テンカー　コーポレイション

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　■　2024年特許取得件数ランキング　　　第286位　108件（2023年：第345位　92件）

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ケーエルエー−テンカー　コーポレイションの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2024-20433	光学計測のための高輝度の照明源	2024年 2月14日
特表 2024-506404	ＥＵＶマスク検査のための方法および装置	2024年 2月13日
特開 2024-19566	Ｘ線スキャトロメトリシステムのフルビーム計測	2024年 2月 9日
特表 2024-506143	デュアル真空シール	2024年 2月 9日
特開 2024-19227	プロセス条件計測ウェハアセンブリ向けのシステム及び方法	2024年 2月 8日
特表 2024-505926	デュアルアパーチャ方式の高解像度電子ビーム装置	2024年 2月 8日
特表 2024-505941	歪んだ形状を有する深部構造の正確な測定のための方法およびシステム	2024年 2月 8日
特表 2024-505557	補正板を使用した光学システムの収差及びアポダイゼーションの補正	2024年 2月 6日
特表 2024-503371	プロセス条件検知装置	2024年 1月25日
特表 2024-502549	広帯域光の連続生成のためのレーザおよびドラム制御	2024年 1月22日
特表 2024-502439	計測のための瞳面ビーム走査	2024年 1月19日
特表 2024-502237	マスク検査ツールにおける光学式高さセンサの統合	2024年 1月18日
特表 2024-501932	集積回路を製造するための方法およびシステム	2024年 1月17日
特表 2024-501969	集積回路を製造するための方法とシステム	2024年 1月17日
特表 2024-501898	走査スキャトロメトリ・オーバーレイ測定	2024年 1月16日

105 件中 91-105 件を表示

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2024-20433 2024-506404 2024-19566 2024-506143 2024-19227 2024-505926 2024-505941 2024-505557 2024-503371 2024-502549 2024-502439 2024-502237 2024-501932 2024-501969 2024-501898

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