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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第311位 105件 (2023年:第332位 104件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第286位 108件 (2023年:第345位 92件)
(ランキング更新日:2025年1月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2024-69374 | 計測システム及び計測方法 | 2024年 5月21日 | |
特表 2024-519645 | 高抵抗率試験試料を測定する方法 | 2024年 5月21日 | |
特表 2024-519648 | インライン欠陥部分平均試験を使用する適応的半導体試験のためのシステムおよび方法 | 2024年 5月21日 | |
特表 2024-519569 | 検査ツールにおける側方剪断干渉測定のシステムおよび方法 | 2024年 5月17日 | |
特表 2024-518226 | マルチ分解能オーバーレイ計測ターゲット | 2024年 5月 1日 | |
特表 2024-518237 | オーバーレイ計測用の傾斜照明 | 2024年 5月 1日 | |
特表 2024-517545 | 高スループットのマルチ電子ビームシステム | 2024年 4月23日 | |
特表 2024-517052 | 熱膨張によるミスマッチの緩和するプロセス状態検出装置および方法 | 2024年 4月19日 | |
特表 2024-517055 | 半導体デバイスウエハのための改良されたメトロロジーについてのシステムおよび方法 | 2024年 4月19日 | |
特表 2024-516921 | 製品上オーバレイターゲット | 2024年 4月18日 | |
特表 2024-516764 | 静電基板洗浄システム、装置および方法 | 2024年 4月17日 | |
特表 2024-516493 | 投影撮像システムにおけるその場光化学洗浄用の光の光路結合のためのシステム及び方法 | 2024年 4月16日 | |
特開 2024-41915 | マルチミラーレーザ維持プラズマ光源システム及び方法 | 2024年 3月27日 | |
特表 2024-513641 | マルチビームアレイ構成のための成形アパーチャセット | 2024年 3月27日 | |
特表 2024-513341 | オーバレイ計量の性能拡張 | 2024年 3月25日 |
105 件中 61-75 件を表示
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2024-69374 2024-519645 2024-519648 2024-519569 2024-518226 2024-518237 2024-517545 2024-517052 2024-517055 2024-516921 2024-516764 2024-516493 2024-41915 2024-513641 2024-513341
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1月9日(木) -
1月10日(金) -
1月11日(土) -
1月11日(土) -
1月9日(木) -
1月14日(火) - 東京 港区
1月15日(水) -
1月15日(水) - 東京 千代田区
1月15日(水) -
1月15日(水) -
1月16日(木) - 石川 金沢市
1月16日(木) -
1月17日(金) - 東京 渋谷区
1月17日(金) -
1月17日(金) -
1月14日(火) - 東京 港区
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