ホーム > 特許ランキング > エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. > 2024年 > 出願公開一覧
※ ログインすれば出願人(エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2024年 出願公開件数ランキング 第220位 162件 (2023年:第242位 151件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第257位 124件 (2023年:第238位 146件)
(ランキング更新日:2025年1月8日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2024-164009 | 時間依存欠陥検査装置 | 2024年11月26日 | |
特表 2024-543335 | 中空コアフォトニック結晶ファイバベースの広帯域放射発生器 | 2024年11月21日 | |
特表 2024-543543 | アパーチャ及び方法 | 2024年11月21日 | |
特開 2024-160233 | メトロロジ方法及び関連のコンピュータプロダクト | 2024年11月13日 | |
特表 2024-541813 | レチクルの熱効果を較正するための方法及びシステム | 2024年11月13日 | |
特表 2024-541183 | リソグラフィ装置ステージカップリング | 2024年11月 8日 | |
特表 2024-541245 | エッチングバイアス方向に基づくエッチング効果の決定 | 2024年11月 8日 | |
特表 2024-541390 | リソグラフィ装置で使用するためのペリクル及び膜 | 2024年11月 8日 | |
特開 2024-156751 | 電子エミッタ及びそれを製作する方法 | 2024年11月 6日 | |
特開 2024-156795 | パターニングデバイス及びそのパターンを生成するためのシステム、製品、及び方法 | 2024年11月 6日 | |
特開 2024-156864 | 暗視野デジタルホログラフィ顕微鏡および関連する計測方法 | 2024年11月 6日 | |
特表 2024-540808 | 高いランディングエネルギーの後方散乱荷電粒子の画像分解能を向上させるためのエネルギー帯域通過フィルタリング | 2024年11月 6日 | |
特表 2024-541017 | リソグラフィ装置用の装置及び方法 | 2024年11月 6日 | |
特表 2024-539998 | 液体ターゲット材料を放射源に供給するための装置 | 2024年10月31日 | |
特表 2024-539327 | 物体を保持するためのクランプ、物体を保持するためのクランプを製造する方法、およびリソグラフィシステム | 2024年10月28日 |
164 件中 16-30 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2024-164009 2024-543335 2024-543543 2024-160233 2024-541813 2024-541183 2024-541245 2024-541390 2024-156751 2024-156795 2024-156864 2024-540808 2024-541017 2024-539998 2024-539327
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.の知財の動向チェックに便利です。
1月8日(水) -
1月8日(水) -
1月9日(木) -
1月10日(金) -
1月11日(土) -
1月11日(土) -
1月8日(水) -
1月14日(火) - 東京 港区
1月15日(水) -
1月15日(水) - 東京 千代田区
1月15日(水) -
1月15日(水) -
1月16日(木) - 石川 金沢市
1月16日(木) -
1月17日(金) - 東京 渋谷区
1月17日(金) -
1月17日(金) -
1月14日(火) - 東京 港区
〒973-8403 福島県いわき市内郷綴町榎下16-3 内郷商工会別棟事務所2階 特許・実用新案 意匠 商標 コンサルティング
東京都新宿区西新宿8-1-9 シンコービル 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都品川区東品川2丁目2番24号 天王洲セントラルタワー 22階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング