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エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

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  2024年 出願公開件数ランキング    第220位 162件 上昇2023年:第242位 151件)

  2024年 特許取得件数ランキング    第257位 124件 下降2023年:第238位 146件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2024-150564 ペリクル及びペリクルアセンブリ 2024年10月23日
特表 2024-538504 流体抽出システム、方法及びリソグラフィ装置 2024年10月23日
特開 2024-149919 メンブレンアセンブリを製造する方法 2024年10月21日
特開 2024-149505 レチクルアセンブリのアセンブリのための装置 2024年10月18日
特開 2024-149560 ペリクルに関連する状態を決定するための装置および方法 2024年10月18日
特表 2024-537970 帯域外漏れ補正方法及びメトロロジ装置 2024年10月18日
特表 2024-537603 荷電粒子システムにおける故障メカニズムの分類及び識別による検査のためのシステム及び方法 2024年10月16日
特表 2024-537895 計測方法および関連する計測およびリソグラフィ装置における測定レシピを決定する方法 2024年10月16日
特開 2024-144428 メンブレンクリーニング装置 2024年10月11日
特開 2024-138252 荷電粒子評価ツール、検査方法 2024年10月 8日
特開 2024-138350 サンプリングスキームを決定する方法、半導体基板測定装置、リソグラフィ装置 2024年10月 8日
特表 2024-536681 フォーカスメトロロジのための方法及び関連する装置 2024年10月 8日
特表 2024-536685 計測データを変換する方法 2024年10月 8日
特表 2024-536793 荷電粒子装置及び方法 2024年10月 8日
特表 2024-536499 リソグラフィ装置用のペリクル膜 2024年10月 4日

164 件中 31-45 件を表示

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2024-150564 2024-538504 2024-149919 2024-149505 2024-149560 2024-537970 2024-537603 2024-537895 2024-144428 2024-138252 2024-138350 2024-536681 2024-536685 2024-536793 2024-536499

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