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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第220位 162件
（
2023年：第242位 151件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第257位 124件
（
2023年：第238位 146件）
（ランキング更新日：2025年1月8日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2024-529301 | データ処理デバイス及び方法、荷電粒子評価システム及び方法 | 2024年 8月 6日 | |
| 特表 2024-529342 | 荷電粒子システムにおける電子源を安定させるためのシステム及び装置 | 2024年 8月 6日 | |
| 特表 2024-529140 | 静電ホルダ、物体テーブル、およびリソグラフィ装置 | 2024年 8月 1日 | |
| 特開 2024-102061 | 電磁複合レンズ及びそのようなレンズを備えた荷電粒子光学システム | 2024年 7月30日 | |
| 特表 2024-528429 | 荷電粒子デバイス検出器 | 2024年 7月30日 | |
| 特表 2024-528451 | 異常ベースの欠陥検査のための方法及びシステム | 2024年 7月30日 | |
| 特表 2024-527808 | コンポーネントを準備及びクリーニングするための装置及び方法 | 2024年 7月26日 | |
| 特表 2024-527237 | 基板ホルダ上で使用される構造、基板ホルダ、リソグラフィ装置及び方法 | 2024年 7月24日 | |
| 特表 2024-526917 | 変形可能ミラーシステム | 2024年 7月19日 | |
| 特表 2024-526009 | ＥＵＶソースにおいてターゲット材料の液滴を生成する装置及び方法 | 2024年 7月17日 | |
| 特表 2024-526150 | 構造部品を保持する保持装置および保持装置の製造方法 | 2024年 7月17日 | |
| 特表 2024-526180 | リソグラフィ装置におけるレチクルの熱調節のためのシステム、方法、およびデバイス | 2024年 7月17日 | |
| 特表 2024-525300 | メトロロジ方法及びデバイス | 2024年 7月12日 | |
| 特表 2024-525355 | メトロロジビーム散乱を使用する液滴検出メトロロジ | 2024年 7月12日 | |
| 特表 2024-525751 | リソグラフィシステム、基板撓み補償器、および方法 | 2024年 7月12日 |
164 件中 76-90 件を表示
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2024-529301 2024-529342 2024-529140 2024-102061 2024-528429 2024-528451 2024-527808 2024-527237 2024-526917 2024-526009 2024-526150 2024-526180 2024-525300 2024-525355 2024-525751
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