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東京エレクトロン株式会社
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第58位 660件
（
2018年：第67位 588件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第58位 415件
（
2018年：第50位 503件）
（ランキング更新日：2025年7月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6587287 | フォトレジストディスペンスシステムのためのアクティブフィルタ技術 | 2019年10月 9日 | |
| 特許 6587514 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2019年10月 9日 | |
| 特許 6587580 | エッチング処理方法 | 2019年10月 9日 | |
| 特許 6582391 | プラズマ処理装置 | 2019年10月 2日 | |
| 特許 6582676 | ロードロック装置、及び基板処理システム | 2019年10月 2日 | |
| 特許 6583054 | 基板処理方法及び記憶媒体 | 2019年10月 2日 | |
| 特許 6583064 | マスク構造体の形成方法及び成膜装置 | 2019年10月 2日 | |
| 特許 6583081 | 半導体装置の製造方法 | 2019年10月 2日 | |
| 特許 6584022 | 不動態化を使用する銅の異方性エッチング | 2019年10月 2日 | |
| 特許 6584162 | 積層封止膜形成方法および形成装置 | 2019年10月 2日 | |
| 特許 6584289 | 基板載置台および基板処理装置 | 2019年10月 2日 | |
| 特許 6584326 | Ｃｕ配線の製造方法 | 2019年10月 2日 | |
| 特許 6584329 | プラズマ処理装置 | 2019年10月 2日 | |
| 特許 6584347 | 成膜方法 | 2019年10月 2日 | |
| 特許 6584348 | 凹部の埋め込み方法および処理装置 | 2019年10月 2日 |
418 件中 76-90 件を表示
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6587287 6587514 6587580 6582391 6582676 6583054 6583064 6583081 6584022 6584162 6584289 6584326 6584329 6584347 6584348
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