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東京エレクトロン株式会社

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  2023年 出願公開件数ランキング    第31位 722件 下降2022年:第25位 842件)

  2023年 特許取得件数ランキング    第32位 762件 上昇2022年:第38位 690件)

(ランキング更新日:2025年2月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2023-142170 基板処理装置及び基板処理方法 2023年10月 5日
特開 2023-142239 プラズマ処理装置及び温度制御方法 2023年10月 5日
特開 2023-142358 パターニング方法及びパターニング装置 2023年10月 5日
特開 2023-142601 成膜方法及び成膜装置 2023年10月 5日
特開 2023-142602 成膜方法及び成膜装置 2023年10月 5日
特開 2023-139392 基板処理システム 2023年10月 4日
特開 2023-139986 基板処理システム及び基板搬送方法 2023年10月 4日
特表 2023-541682 周期的低温膜成長プロセス 2023年10月 3日
特開 2023-138329 熱処理装置及び熱処理方法 2023年10月 2日
特開 2023-135768 情報処理装置、プログラム及び復旧支援方法 2023年 9月29日
特開 2023-136461 予測方法及び情報処理装置 2023年 9月29日
特開 2023-136579 成膜方法及び成膜装置 2023年 9月29日
特開 2023-137352 プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 2023年 9月29日
特開 2023-137355 プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 2023年 9月29日
特開 2023-137546 基板載置台、基板処理装置及び基板処理方法 2023年 9月29日

725 件中 151-165 件を表示

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2023-142170 2023-142239 2023-142358 2023-142601 2023-142602 2023-139392 2023-139986 2023-541682 2023-138329 2023-135768 2023-136461 2023-136579 2023-137352 2023-137355 2023-137546

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