特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2024年出願公開件数ランキング　　　第27位　725件（2023年：第31位　722件）

　■　2024年特許取得件数ランキング　　　第25位　802件（2023年：第32位　762件）

（ランキング更新日：2025年2月5日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2024-98586	プラズマ処理装置及び制御方法	2024年 7月24日
特開 2024-98615	基板処理方法及び基板処理装置	2024年 7月24日
特開 2024-98708	プラズマ処理装置	2024年 7月24日
特開 2024-98769	エッチング方法及びプラズマ処理装置	2024年 7月24日
特開 2024-98831	検査装置、ローダおよび搬送方法	2024年 7月24日
特開 2024-98961	エッチング方法及びプラズマ処理装置	2024年 7月24日
特開 2024-99039	基板処理装置、基板処理システム、及びメンテナンス方法	2024年 7月24日
特開 2024-97842	レーザー加工装置、及びレーザー加工方法	2024年 7月19日
特開 2024-97910	真空処理装置、及び真空処理装置の制御方法	2024年 7月19日
特開 2024-97990	プラズマ処理装置	2024年 7月19日
特開 2024-97204	撮像ユニット、撮像ユニット取り付け構造、基板処理装置および撮像方法	2024年 7月18日
特開 2024-97250	静電チャック、基板処理装置、および静電チャックの製造方法	2024年 7月18日
特開 2024-97251	静電チャック、基板処理装置、および静電チャックの製造方法	2024年 7月18日
特開 2024-97002	シャワーヘッド、電極ユニット、ガス供給ユニット、基板処理装置及び基板処理システム	2024年 7月17日
特開 2024-97014	プラズマ処理装置及び電源システム	2024年 7月17日

730 件中 301-315 件を表示

... 21

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2024-98586 2024-98615 2024-98708 2024-98769 2024-98831 2024-98961 2024-99039 2024-97842 2024-97910 2024-97990 2024-97204 2024-97250 2024-97251 2024-97002 2024-97014

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数