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ラム リサーチ コーポレーション

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  2024年 出願公開件数ランキング    第178位 197件 下降2023年:第146位 259件)

  2024年 特許取得件数ランキング    第216位 154件 上昇2023年:第292位 112件)

(ランキング更新日:2025年1月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2024-539058 マルチステーション型半導体処理チャンバのクリーニングのための装置 2024年10月28日
特表 2024-539127 プラズマエッチングにおけるin-situ詰まり除去 2024年10月28日
特開 2024-151332 多重ヒータアレイを備えた静電チャックのための長寿命かつ拡張温度範囲の埋め込みダイオード設計 2024年10月24日
特開 2024-150639 基板処理システムの基板支持体の発熱体のための電源分離回路 2024年10月23日
特開 2024-150670 ラジカルおよび前駆体ガスを下流チャンバに供給して遠隔プラズマ膜蒸着を可能にするための温度制御を備えた統合シャワーヘッド 2024年10月23日
特表 2024-538526 静電クランプによるリモートプラズマ堆積 2024年10月23日
特表 2024-538650 マルチステーション処理モジュールおよびリアクタアーキテクチャ 2024年10月23日
特表 2024-538796 ベベル洗浄によるストリップ 2024年10月23日
特開 2024-149578 高電力回路からの切り離しを伴わない静電容量測定 2024年10月18日
特表 2024-538225 基板を処理する際の均一性を制御するためのフェーズドアレイアンテナおよび方法 2024年10月18日
特開 2024-147716 3D NAND構造内にタングステンおよび他の金属を堆積させる方法 2024年10月16日
特表 2024-537771 エッジ容量結合プラズマチャンバ構造 2024年10月16日
特表 2024-537166 湾曲ウエハ用のエンドエフェクタパッド設計 2024年10月10日
特表 2024-537430 エッジリングへの入力電圧波形変更による極縁フィーチャプロファイル傾斜制御 2024年10月10日
特表 2024-537515 高アスペクト比プラズマエッチングにおける金属含有表面の修正 2024年10月10日

197 件中 46-60 件を表示

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2024-539058 2024-539127 2024-151332 2024-150639 2024-150670 2024-538526 2024-538650 2024-538796 2024-149578 2024-538225 2024-147716 2024-537771 2024-537166 2024-537430 2024-537515

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