特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ラム　リサーチ　コーポレーション

※ ログインすれば出願人(ラム　リサーチ　コーポレーション)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2024年出願公開件数ランキング　　　第178位　197件（2023年：第146位　259件）

　■　2024年特許取得件数ランキング　　　第216位　154件（2023年：第292位　112件）

（ランキング更新日：2025年1月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2025年

ラム　リサーチ　コーポレーションの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2024-160403	遠隔プラズマ膜蒸着を可能にするためにラジカルおよび前駆体ガスを下流チャンバに供給するための改良された孔パターンを備える統合シャワーヘッド	2024年11月13日
特表 2024-542072	周波数変調されたマルチレベルアウトフェージング電力増幅器の自動化調節のための方法および装置	2024年11月13日
特表 2024-542075	水蒸気および酸素の分圧の高速かつ選択的制御を伴う基板処理ツール	2024年11月13日
特表 2024-541727	半導体処理操作におけるエッジ均一性向上のためのエッジリング	2024年11月11日
特開 2024-159812	ＲＦプラズマ・ツールにおける複数レベルのパルス化のためのシステム及び方法	2024年11月 8日
特開 2024-159826	伸長ＲＦストラップを有するインピーダンス整合器	2024年11月 8日
特開 2024-156947	エッチング層をエッチングするための方法	2024年11月 6日
特開 2024-156987	マルチステーション型堆積システムにおける膜厚整合のための、サイクル及び時間が可変のＲＦ活性化方法	2024年11月 6日
特開 2024-156989	ＫＨＺＲＦ発生器の動作サイクル内でＭＨＺＲＦ発生器を調節するためのシステムおよび方法	2024年11月 6日
特表 2024-540927	自動校正ウエハおよび切り欠きを有する校正ウエハを使用する適応型位置決めシステムおよびルーチン	2024年11月 6日
特開 2024-153798	可動エッジリング設計	2024年10月29日
特表 2024-539666	電極に提供されるＲＦ信号間の位相差を決定するためのシステムおよび方法	2024年10月29日
特表 2024-539698	ラジカル種供給のための穴サイズを有するシャワーヘッド	2024年10月29日
特表 2024-539719	容量結合チャンバのための被覆部品	2024年10月29日
特表 2024-538994	アンモニア／塩素化学半導体処理のための装置およびシステム	2024年10月28日

197 件中 31-45 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2024-160403 2024-542072 2024-542075 2024-541727 2024-159812 2024-159826 2024-156947 2024-156987 2024-156989 2024-540927 2024-153798 2024-539666 2024-539698 2024-539719 2024-538994

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ラム　リサーチ　コーポレーションの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数