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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第178位 197件 (2023年:第146位 259件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第216位 154件 (2023年:第292位 112件)
(ランキング更新日:2025年1月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2024-138325 | 半導体RFプラズマ処理のためのパルス内のRFパルス | 2024年10月 8日 | |
特開 2024-138327 | 半導体処理ツールにおけるRF電流測定 | 2024年10月 8日 | |
特表 2024-536715 | ハイブリッド周波数プラズマ源 | 2024年10月 8日 | |
特表 2024-536874 | 誘導結合プラズマ中のイオンのエネルギーを増大させ、イオンのエネルギーの広がりを減少させる方法および装置 | 2024年10月 8日 | |
特開 2024-133561 | ハロゲン化化学物質によるフォトレジスト現像 | 2024年10月 2日 | |
特開 2024-133562 | ハロゲン化化学物質によるフォトレジスト現像 | 2024年10月 2日 | |
特表 2024-535221 | ダイレクトドライブ高周波電源のための基準ボックス | 2024年 9月30日 | |
特表 2024-535222 | ダイレクトドライブ高周波電源のためのジャンクションシステム | 2024年 9月30日 | |
特表 2024-535223 | 直接駆動高周波電源を使用するプラズマ処理システム用の分光反射率測定システムを含む計測エンクロージャ | 2024年 9月30日 | |
特表 2024-535295 | ICP源におけるRF電力の増加を軽減するための筐体 | 2024年 9月30日 | |
特表 2024-535296 | 流量制限器の上流側のヒータを使用する複数のステーションへのガス流量のバランシング | 2024年 9月30日 | |
特表 2024-534785 | 静電容量式センサ基板によるシャワーヘッドから台座までのギャップ測定 | 2024年 9月26日 | |
特表 2024-534873 | カルコゲナイド処理技術および装置 | 2024年 9月26日 | |
特表 2024-534990 | ダイレクトドライブ無線周波電源に対するコイルの対称的結合 | 2024年 9月26日 | |
特表 2024-535072 | 基板からの残留物除去のためのインサイチュ裏面プラズマ処理 | 2024年 9月26日 |
197 件中 61-75 件を表示
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2024-138325 2024-138327 2024-536715 2024-536874 2024-133561 2024-133562 2024-535221 2024-535222 2024-535223 2024-535295 2024-535296 2024-534785 2024-534873 2024-534990 2024-535072
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1月11日(土) -
1月11日(土) -
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1月14日(火) - 東京 港区
1月15日(水) -
1月15日(水) - 東京 千代田区
1月15日(水) -
1月15日(水) -
1月16日(木) - 石川 金沢市
1月16日(木) -
1月17日(金) - 東京 渋谷区
1月17日(金) -
1月17日(金) -
1月18日(土) -
1月14日(火) - 東京 港区
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