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ラム　リサーチ　コーポレーション

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ラム　リサーチ　コーポレーションの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2024-526539	基板の移動を防止するための前面圧力および裏面圧力の監視	2024年 7月19日
特開 2024-96980	ハロゲン系化合物を用いて選択的にエッチングするための原子層エッチングシステム	2024年 7月17日
特開 2024-97021	抵抗熱測定を介するシャワーヘッド加熱の制御	2024年 7月17日
特表 2024-526102	高濃度の分子水素および他のガスの基板処理システムへの送給	2024年 7月17日
特表 2024-526172	高アスペクト比エッチングのための多状態パルシング	2024年 7月17日
特開 2024-96365	間隙充填のためのドープまたは非ドープシリコン炭化物および遠隔水素プラズマ曝露	2024年 7月12日
特開 2024-95763	小さい角発散でピークイオンエネルギ増強を達成するためのシステムおよび方法	2024年 7月10日
特開 2024-95772	堆積副生成物の蓄積からの真空ポンプの保護	2024年 7月10日
特表 2024-524907	部分的にエッチングされた構造の非共形不動態化のためのｉｎ－ｓｉｔｕの炭化水素系層	2024年 7月 9日
特表 2024-524964	誘電体エッチングにおけるプロファイルツイスティング制御	2024年 7月 9日
特表 2024-524132	基板処理システムの部品追跡のためのインラインマシンビジョンシステム	2024年 7月 5日
特表 2024-524553	ケイ素含有膜のプラズマ強化原子層堆積	2024年 7月 5日
特表 2024-523243	高アスペクト比構造をエッチングするためのシステムおよび方法	2024年 6月28日
特表 2024-523308	ドライ現像装置、およびウエハ中のドライ現像副生成物を揮発させる方法	2024年 6月28日
特開 2024-84789	基板処理システムにおける中間リング腐食補償	2024年 6月25日

197 件中 106-120 件を表示

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2024-526539 2024-96980 2024-97021 2024-526102 2024-526172 2024-96365 2024-95763 2024-95772 2024-524907 2024-524964 2024-524132 2024-524553 2024-523243 2024-523308 2024-84789

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