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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第595位 53件
(2020年:第433位 79件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第483位 50件
(2020年:第402位 64件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6951083 | マルチ荷電粒子ビーム描画方法およびマルチ荷電粒子ビーム描画装置 | 2021年10月20日 | |
特許 6951123 | 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2021年10月20日 | |
特許 6951174 | 電子ビーム装置及び電子ビームの位置ずれ補正方法 | 2021年10月20日 | |
特許 6951922 | 荷電粒子ビーム装置及び荷電粒子ビームの位置ずれ補正方法 | 2021年10月20日 | |
特許 6937125 | ステージ機構の位置補正方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2021年 9月22日 | |
特許 6938397 | 検査装置および検査方法 | 2021年 9月22日 | |
特許 6934742 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2021年 9月15日 | |
特許 6927728 | 電子ビーム照射装置及び電子ビームのダイナミックフォーカス調整方法 | 2021年 9月 1日 | |
特許 6930431 | アパーチャのアライメント方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 | 2021年 9月 1日 | |
特許 6930906 | カソード形成方法 | 2021年 9月 1日 | |
特許 6917208 | 偏光イメージ取得装置、パターン検査装置、偏光イメージ取得方法、及びパターン検査方法 | 2021年 8月11日 | |
特許 6899705 | 気相成長装置及び気相成長方法 | 2021年 7月 7日 | |
特許 6893842 | パターン検査方法およびパターン検査装置 | 2021年 6月23日 | |
特許 6883478 | 半導体装置 | 2021年 6月 9日 | |
特許 6884059 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2021年 6月 9日 |
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6951083 6951123 6951174 6951922 6937125 6938397 6934742 6927728 6930431 6930906 6917208 6899705 6893842 6883478 6884059
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