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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第595位 53件
(2020年:第433位 79件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第483位 50件
(2020年:第402位 64件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6877239 | パターン検査装置及びパターン検査方法 | 2021年 5月26日 | |
特許 6878247 | パターン検査方法およびパターン検査装置 | 2021年 5月26日 | |
特許 6869695 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2021年 5月12日 | |
特許 6869815 | 検査方法および検査装置 | 2021年 5月12日 | |
特許 6866111 | 成膜装置および成膜方法 | 2021年 4月28日 | |
特許 6861508 | マルチ荷電粒子ビーム露光方法及びマルチ荷電粒子ビーム露光装置 | 2021年 4月21日 | |
特許 6861543 | 荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置 | 2021年 4月21日 | |
特許 6863208 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2021年 4月21日 | |
特許 6863259 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2021年 4月21日 | |
特許 6854215 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2021年 4月 7日 | |
特許 6851178 | パターン検査方法及びパターン検査装置 | 2021年 3月31日 | |
特許 6851181 | マルチビーム光学系の調整方法 | 2021年 3月31日 | |
特許 6844999 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置およびマルチ荷電粒子ビーム描画方法 | 2021年 3月17日 | |
特許 6845000 | マルチ荷電粒子ビーム露光装置およびマルチ荷電粒子ビーム露光方法 | 2021年 3月17日 | |
特許 6834429 | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びその調整方法 | 2021年 2月24日 |
51 件中 31-45 件を表示
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6877239 6878247 6869695 6869815 6866111 6861508 6861543 6863208 6863259 6854215 6851178 6851181 6844999 6845000 6834429
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