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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2024-529123	投影露光システム及び接着剤層を設計する方法	2024年 8月 1日
特表 2024-524956	マウント装置、リソグラフィ装置、及びマウント装置を製造する方法	2024年 7月 9日
特表 2024-523889	オブジェクトの表面を処理するための方法、装置、およびコンピュータプログラム	2024年 7月 2日
特表 2024-523896	外側層を堆積させる方法、ＥＵＶ波長域用の反射光学素子、及びＥＵＶリソグラフィシステム	2024年 7月 2日
特表 2024-522609	結像光学ユニット	2024年 6月21日
特表 2024-522772	マイクロリソグラフィフォトマスクの欠陥の粒子ビーム誘起処理のための方法および装置	2024年 6月21日
特表 2024-521782	光学装置、目標変形を設定する方法、及びリソグラフィシステム	2024年 6月 4日
特表 2024-521841	投影露光装置及び投影露光装置のコンポーネントを設計する方法	2024年 6月 4日
特表 2024-518810	マイクロリソグラフィのマスクの特性評価方法および装置	2024年 5月 2日
特開 2024-59661	計測光に関する物体の反射率を計測するための方法およびその方法を実行するための計量システム	2024年 5月 1日
特表 2024-518654	光学装置、目標変形を調整する方法、及びリソグラフィシステム	2024年 5月 1日
特表 2024-516176	高アスペクト比構造のセグメンテーションまたは断面	2024年 4月12日
特表 2024-515572	少なくとも１つの層を堆積させる方法及び装置、光学素子、及び光学装置	2024年 4月10日
特開 2024-48392	リソグラフィシステムのマスクを認定するための方法および装置	2024年 4月 8日
特開 2024-41739	メッシュ完全性検査	2024年 3月27日

63 件中 31-45 件を表示

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2024-529123 2024-524956 2024-523889 2024-523896 2024-522609 2024-522772 2024-521782 2024-521841 2024-518810 2024-59661 2024-518654 2024-516176 2024-515572 2024-48392 2024-41739

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