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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2024-513134	リソグラフィシステムのミラーを製造する方法	2024年 3月21日
特表 2024-513135	マイクロリソグラフィ投影露光装置のミラーを製造する方法。	2024年 3月21日
特表 2024-511398	ファセットシステム及びリソグラフィ装置	2024年 3月13日
特表 2024-511446	リソグラフィ投影露光装置のための光学システム	2024年 3月13日
特表 2024-511089	光学アセンブリ及びその製造方法、光学素子を変形させる方法、並びに投影露光装置	2024年 3月12日
特開 2024-28220	集束粒子ビームを使用してサンプルを結像（ｉｍａｇｅ）および処理するためのデバイス	2024年 3月 1日
特表 2024-507881	光学アセンブリ、光学素子を変形させる方法、及び投影露光システム	2024年 2月21日
特表 2024-507895	放射線を反射する光学素子及び光学アセンブリ	2024年 2月21日
特表 2024-506918	マイクロリソグラフィ用の投影露光装置の多部品ミラーを製造する方法	2024年 2月15日
特開 2024-19117	測定装置、干渉法による測定方法、処理方法、光学要素及びリソグラフィシステム	2024年 2月 8日
特表 2024-506046	マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学素子を加熱する方法及び光学系	2024年 2月 8日
特表 2024-506056	特にマイクロリソグラフィ用の光学系を調整する方法	2024年 2月 8日
特開 2024-14793	リソグラフィ装置用の光学素子を製造する方法	2024年 2月 1日
特表 2024-504786	層形成方法、光学素子、及び光学系	2024年 2月 1日
特表 2024-504199	反射光学素子及び反射光学素子を修復し且つ／又は調整する方法	2024年 1月30日

63 件中 46-60 件を表示

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2024-513134 2024-513135 2024-511398 2024-511446 2024-511089 2024-28220 2024-507881 2024-507895 2024-506918 2024-19117 2024-506046 2024-506056 2024-14793 2024-504786 2024-504199

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