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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第485位 63件 (2023年:第628位 47件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第517位 51件 (2023年:第631位 40件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7510418 | 格子構造の形態の分光フィルタを備える投影露光装置の照射光学ユニット用のミラー、およびミラー上に格子構造の形態の分光フィルタを生成するための方法 | 2024年 7月 3日 | |
特許 7510468 | マイクロリソグラフィフォトマスクの欠陥の粒子ビーム誘起処理のための方法 | 2024年 7月 3日 | |
特許 7506684 | 表面形状を干渉測定する計測法 | 2024年 6月26日 | |
特許 7504885 | アルミニウム層をインサイチュで保護する方法及びVUV波長域用の光学装置 | 2024年 6月24日 | |
特許 7502992 | 投影リソグラフィ用の照明光学デバイス | 2024年 6月19日 | |
特許 7503094 | リソグラフィマスクへの測定光衝突に対する、波長依存測定光反射率の効果、および測定光の偏光の効果を測定する方法 | 2024年 6月19日 | |
特許 7503097 | マイクロリソグラフィ微細構造化構成要素の像を解析する方法および装置 | 2024年 6月19日 | |
特許 7503098 | 測定される入射瞳内で照明光によって照明されたときの光学系の結像品質を決定するための方法 | 2024年 6月19日 | |
特許 7496839 | 特にマイクロリソグラフィ投影露光装置用のミラー | 2024年 6月 7日 | |
特許 7495922 | 反射光学素子 | 2024年 6月 5日 | |
特許 7493102 | 半導体リソグラフィ用の投影露光装置のアクチュエータを測定する方法及び装置 | 2024年 5月30日 | |
特許 7482323 | マイクロリソグラフィ用適応光学素子 | 2024年 5月13日 | |
特許 7477577 | 結像光学製造システムの目標波面を再生する方法、およびその方法を実施する計測システム | 2024年 5月 1日 | |
特許 7475450 | 保護コーティングを有する光学素子、その製造方法及び光学装置 | 2024年 4月26日 | |
特許 7461407 | 位置合わせ誤差を決定するための方法 | 2024年 4月 3日 |
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7510418 7510468 7506684 7504885 7502992 7503094 7503097 7503098 7496839 7495922 7493102 7482323 7477577 7475450 7461407
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1月10日(金) -
1月11日(土) -
1月11日(土) -
1月10日(金) -
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1月15日(水) -
1月15日(水) - 東京 千代田区
1月15日(水) -
1月15日(水) -
1月16日(木) - 石川 金沢市
1月16日(木) -
1月17日(金) - 東京 渋谷区
1月17日(金) -
1月17日(金) -
1月18日(土) -
1月14日(火) - 東京 港区