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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．

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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2024-510161	中空コアフォトニック結晶ファイバベースの多波長光源デバイス	2024年 3月 6日
特開 2024-28581	複数の荷電粒子ビームを使用する装置	2024年 3月 4日
特表 2024-509518	中空コア光ファイバベースの放射源	2024年 3月 4日
特表 2024-508647	リソグラフィ装置及び方法のためのペリクルメンブレン	2024年 2月28日
特表 2024-508654	投影システムの収差を予測する方法およびシステム	2024年 2月28日
特表 2024-508371	リソグラフィ露光装置の一または複数のアクチュエータについてのフォーカス駆動プロファイルを決定するための方法	2024年 2月27日
特表 2024-508323	基板拘束システム	2024年 2月26日
特表 2024-507079	リソグラフィ装置のための新しいインターフェイス定義	2024年 2月16日
特表 2024-506526	汚染物質検出のシステム及び方法	2024年 2月14日
特開 2024-16096	位置決め及びクランプ硬化のための装置	2024年 2月 6日
特開 2024-15175	コンピュータによる計測	2024年 2月 1日
特開 2024-15210	応力低減のための金属ケイ化物窒化	2024年 2月 1日
特表 2024-503973	ウェーハ検査用の合成欠陥画像を生成するための機械学習ベースのシステム及び方法	2024年 1月30日
特表 2024-503057	干渉計システム、ポジショニングシステム、リソグラフィ装置、ジッタ判定方法、デバイス製造方法	2024年 1月24日
特表 2024-502741	計測装置及び計測方法	2024年 1月23日

164 件中 136-150 件を表示

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2024-510161 2024-28581 2024-509518 2024-508647 2024-508654 2024-508371 2024-508323 2024-507079 2024-506526 2024-16096 2024-15175 2024-15210 2024-503973 2024-503057 2024-502741

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