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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．

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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2024-520289	極紫外線フォトリソグラフィ用途のためのハイブリッドフォトレジスト組成物	2024年 5月24日
特表 2024-519662	フーリエ変換ベースレイアウトパターンの階層的クラスタ化	2024年 5月21日
特表 2024-519754	極端紫外光源のためのメトロロジシステム	2024年 5月21日
特表 2024-519279	広帯域放射を発生させるための光学素子	2024年 5月10日
特表 2024-519281	計測装置およびリソグラフィ装置	2024年 5月10日
特開 2024-59659	荷電粒子ビームシステムにおいてレベル変動を測定するための自己示差共焦点傾斜センサ	2024年 5月 1日
特表 2024-518603	ＥＵＶ露光装置における測定のための回折格子	2024年 5月 1日
特開 2024-56720	荷電粒子操作デバイス	2024年 4月23日
特表 2024-515937	荷電粒子システムにおける検査中に局所焦点を特定するためのシステム及び方法	2024年 4月11日
特表 2024-515941	レーザビーム計測システム、レーザビームシステム、ＥＵＶ放射源及びリソグラフィ装置	2024年 4月11日
特開 2024-50537	静電レンズ設計	2024年 4月10日
特開 2024-50859	マスクアセンブリ及び関連する方法	2024年 4月10日
特表 2024-515421	表面上のラフネス及び／又は欠陥測定のための測定装置並びに方法	2024年 4月10日
特表 2024-515477	光学系、計測システム、リソグラフィ装置における収差の制御及びその方法	2024年 4月10日
特表 2024-515487	温度調節システム、リソグラフィ装置及びオブジェクトを温度調節するための方法	2024年 4月10日

164 件中 106-120 件を表示

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2024-520289 2024-519662 2024-519754 2024-519279 2024-519281 2024-59659 2024-518603 2024-56720 2024-515937 2024-515941 2024-50537 2024-50859 2024-515421 2024-515477 2024-515487

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