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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第220位 162件
（
2023年：第242位 151件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第257位 124件
（
2023年：第238位 146件）
（ランキング更新日：2025年1月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2024-45309 | 液滴発生器性能を監視及び制御する装置及び方法 | 2024年 4月 2日 | |
| 特開 2024-45512 | 装置 | 2024年 4月 2日 | |
| 特表 2024-514399 | スキャニング計測のためのデータフィルタ | 2024年 4月 2日 | |
| 特表 2024-514054 | メトロロジツール較正方法及び関連するメトロロジツール | 2024年 3月28日 | |
| 特表 2024-514056 | 流体ハンドリングシステム、方法及びリソグラフィ装置 | 2024年 3月28日 | |
| 特開 2024-41976 | 荷電粒子システムにおける流体移送システム | 2024年 3月27日 | |
| 特表 2024-513709 | 低クロストークを有する多重荷電粒子ビーム装置 | 2024年 3月27日 | |
| 特表 2024-513761 | レーザシステム | 2024年 3月27日 | |
| 特表 2024-513034 | リソグラフィ装置用パターニング装置および方法 | 2024年 3月21日 | |
| 特表 2024-513074 | 少なくとも１つのターゲットレイアウトを決定する方法及び関連するメトロロジ装置 | 2024年 3月21日 | |
| 特表 2024-512198 | 光パルスを空間的にフィルタリングするための方法および装置 | 2024年 3月19日 | |
| 特表 2024-512438 | ＳＥＭ画像の強調 | 2024年 3月19日 | |
| 特開 2024-36614 | 半導体検出器及びこれを製造する方法 | 2024年 3月15日 | |
| 特表 2024-510995 | 接続アセンブリ | 2024年 3月12日 | |
| 特表 2024-510784 | リソグラフィ装置および照明均一性補正方法 | 2024年 3月11日 |
164 件中 121-135 件を表示
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2024-45309 2024-45512 2024-514399 2024-514054 2024-514056 2024-41976 2024-513709 2024-513761 2024-513034 2024-513074 2024-512198 2024-512438 2024-36614 2024-510995 2024-510784
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