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東京エレクトロン株式会社

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  2023年 出願公開件数ランキング    第31位 722件 下降2022年:第25位 842件)

  2023年 特許取得件数ランキング    第32位 762件 上昇2022年:第38位 690件)

(ランキング更新日:2025年2月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2023-67406 プラズマ処理方法及びプラズマ処理システム 2023年 5月16日
特開 2023-67443 プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 2023年 5月16日
特開 2023-67605 膜を形成する方法、及び膜を形成する装置 2023年 5月16日
特開 2023-67767 基板支持器、プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 2023年 5月16日
特開 2023-67921 プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 2023年 5月16日
特開 2023-67992 加熱機構および基板加熱方法 2023年 5月16日
特開 2023-67998 プラズマ処理装置、温度制御方法および温度制御プログラム 2023年 5月16日
特開 2023-64923 プラズマ処理装置及びインナーチャンバ 2023年 5月12日
特開 2023-65305 成膜方法及び成膜システム 2023年 5月12日
特開 2023-65412 基板処理装置 2023年 5月12日
特表 2023-519707 周期的自己制限的エッチングプロセス 2023年 5月12日
特開 2023-64225 基板支持部、プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 2023年 5月11日
特開 2023-64521 基板に炭素含有膜を成膜する装置、及び方法 2023年 5月11日
特開 2023-63675 パターンを形成する方法 2023年 5月10日
特開 2023-62845 被処理体の搬送方法および処理装置 2023年 5月 9日

725 件中 421-435 件を表示

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2023-67406 2023-67443 2023-67605 2023-67767 2023-67921 2023-67992 2023-67998 2023-64923 2023-65305 2023-65412 2023-519707 2023-64225 2023-64521 2023-63675 2023-62845

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