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東京エレクトロン株式会社

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  2023年 出願公開件数ランキング    第31位 722件 下降2022年:第25位 842件)

  2023年 特許取得件数ランキング    第32位 762件 上昇2022年:第38位 690件)

(ランキング更新日:2025年2月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2023-71064 プラズマ源及びプラズマ処理装置 2023年 5月22日
特開 2023-70364 基板処理システム 2023年 5月19日
特開 2023-68739 液体循環システム、基板処理装置及び液体循環方法 2023年 5月18日
特開 2023-68928 成膜方法、及び成膜方法 2023年 5月18日
特開 2023-69172 基板の搬送を行う装置、及び基板を搬送する方法 2023年 5月18日
特開 2023-69853 液滴吐出装置、パラメータ算出方法、基板処理システム 2023年 5月18日
特開 2023-70200 プラズマ処理装置における載置台のクリーニング方法およびプラズマ処理装置 2023年 5月18日
特開 2023-68558 基板処理システム及び基板処理方法 2023年 5月17日
特開 2023-68619 成膜方法及び成膜装置 2023年 5月17日
特開 2023-67033 基板処理装置及び基板処理方法 2023年 5月16日
特開 2023-67122 基板処理方法及び基板処理システム 2023年 5月16日
特開 2023-67145 基板処理装置、および動作状態監視方法 2023年 5月16日
特開 2023-67238 プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 2023年 5月16日
特開 2023-67369 クリーニング方法、基板の処理方法及びプラズマ処理装置 2023年 5月16日
特開 2023-67386 測定方法及び測定システム 2023年 5月16日

725 件中 406-420 件を表示

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2023-71064 2023-70364 2023-68739 2023-68928 2023-69172 2023-69853 2023-70200 2023-68558 2023-68619 2023-67033 2023-67122 2023-67145 2023-67238 2023-67369 2023-67386

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