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東京エレクトロン株式会社
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第27位 725件
（
2023年：第31位 722件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第25位 802件
（2023年：第32位 762件）
（ランキング更新日：2025年1月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7575554 | 基板処理装置及びシャッタ | 2024年10月29日 | |
| 特許 7573188 | 照射されたエッチング溶液を使用して材料の粗さを低減するための処理システム及びプラットフォーム | 2024年10月25日 | |
| 特許 7573466 | ガス処理装置 | 2024年10月25日 | |
| 特許 7573501 | 基板上の保護膜の膜厚を制御する方法及び装置 | 2024年10月25日 | |
| 特許 7573624 | 基板処理方法、基板処理装置および記憶媒体 | 2024年10月25日 | |
| 特許 7572862 | 測定器及び測定方法 | 2024年10月24日 | |
| 特許 7571498 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2024年10月23日 | |
| 特許 7571529 | 台車及び基板処理装置の構成部材の支持方法 | 2024年10月23日 | |
| 特許 7572120 | 治具、処理システム及び処理方法 | 2024年10月23日 | |
| 特許 7572123 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2024年10月23日 | |
| 特許 7572124 | 成膜方法 | 2024年10月23日 | |
| 特許 7572126 | プラズマ処理装置用の電極及びプラズマ処理装置 | 2024年10月23日 | |
| 特許 7572127 | 真空処理装置 | 2024年10月23日 | |
| 特許 7572128 | プラズマ処理装置 | 2024年10月23日 | |
| 特許 7572564 | 基板処理装置、情報処理方法及び記憶媒体 | 2024年10月23日 |
809 件中 151-165 件を表示
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7575554 7573188 7573466 7573501 7573624 7572862 7571498 7571529 7572120 7572123 7572124 7572126 7572127 7572128 7572564
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