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東京エレクトロン株式会社
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第27位 725件
（
2023年：第31位 722件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第25位 802件
（2023年：第32位 762件）
（ランキング更新日：2025年10月16日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7582748 | ガス穴の設計方法、ガス穴の設計装置 | 2024年11月13日 | |
| 特許 7582749 | 温度制御方法及び温度制御装置 | 2024年11月13日 | |
| 特許 7582757 | 基板処理方法、及び基板処理装置 | 2024年11月13日 | |
| 特許 7583229 | 静電チャック | 2024年11月13日 | |
| 特許 7581034 | 加熱装置及びＬＥＤの制御方法 | 2024年11月12日 | |
| 特許 7581091 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2024年11月12日 | |
| 特許 7581374 | 基板処理システム及び基板処理方法 | 2024年11月12日 | |
| 特許 7581467 | 基板処理装置および導電性配管劣化度合い判定方法 | 2024年11月12日 | |
| 特許 7581498 | 基板液処理方法及び記録媒体 | 2024年11月12日 | |
| 特許 7580186 | 基板処理装置 | 2024年11月11日 | |
| 特許 7580263 | 表示装置、表示方法、及び記憶媒体 | 2024年11月11日 | |
| 特許 7580264 | 基板処理方法 | 2024年11月11日 | |
| 特許 7580277 | 処理液供給装置及び処理液排出方法 | 2024年11月11日 | |
| 特許 7580320 | 基板処理装置および温度制御方法 | 2024年11月11日 | |
| 特許 7580321 | 計測装置、基板処理装置、及び計測方法 | 2024年11月11日 |
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7582748 7582749 7582757 7583229 7581034 7581091 7581374 7581467 7581498 7580186 7580263 7580264 7580277 7580320 7580321
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