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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第178位 197件 (2023年:第146位 259件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第216位 154件 (2023年:第292位 112件)
(ランキング更新日:2025年1月10日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2024-504929 | 金属エッチング | 2024年 2月 2日 | |
特表 2024-504598 | 半導体製造機器のデジタルツインの生成 | 2024年 2月 1日 | |
特開 2024-12547 | プラズマ加熱された窓のマルチゾーン冷却 | 2024年 1月30日 | |
特表 2024-504117 | 固体付加製造を使用した部品の処理 | 2024年 1月30日 | |
特表 2024-504118 | エッチングフロント金属触媒を用いる高アスペクト比メモリのプロファイル最適化 | 2024年 1月30日 | |
特表 2024-504132 | 前処理基板サンプルと後処理基板サンプルとの突合せ | 2024年 1月30日 | |
特表 2024-503562 | 熱エッチングによる選択的ケイ素トリミング | 2024年 1月26日 | |
特表 2024-503424 | 金属エッチング残渣を有するチャンバの構成要素を洗浄する方法 | 2024年 1月25日 | |
特開 2024-10120 | 照射フォトレジストパターニングのための統合乾式プロセス | 2024年 1月23日 | |
特表 2024-502503 | 3D-NAND用の酸化物表面上へのモリブデン膜の堆積 | 2024年 1月19日 | |
特表 2024-501844 | フィーチャ内でのモリブデン堆積 | 2024年 1月16日 | |
特表 2024-501093 | 摩耗補償閉じ込めリング | 2024年 1月11日 | |
特表 2024-500671 | 広いギャップ電極間隔の低圧条件における、高選択性、低応力、および低水素の炭素ハードマスク | 2024年 1月10日 | |
特開 2024-1248 | 静電チャック(ESC)ペデスタル電圧分離 | 2024年 1月 9日 | |
特開 2024-1262 | ウエハチャックアセンブリ | 2024年 1月 9日 |
197 件中 181-195 件を表示
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2024-504929 2024-504598 2024-12547 2024-504117 2024-504118 2024-504132 2024-503562 2024-503424 2024-10120 2024-502503 2024-501844 2024-501093 2024-500671 2024-1248 2024-1262
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1月10日(金) -
1月11日(土) -
1月11日(土) -
1月10日(金) -
1月14日(火) - 東京 港区
1月15日(水) -
1月15日(水) - 東京 千代田区
1月15日(水) -
1月15日(水) -
1月16日(木) - 石川 金沢市
1月16日(木) -
1月17日(金) - 東京 渋谷区
1月17日(金) -
1月17日(金) -
1月18日(土) -
1月14日(火) - 東京 港区
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