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ラム リサーチ コーポレーション

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  2024年 出願公開件数ランキング    第178位 197件 下降2023年:第146位 259件)

  2024年 特許取得件数ランキング    第216位 154件 上昇2023年:第292位 112件)

(ランキング更新日:2025年1月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2024-514605 モリブデンの堆積 2024年 4月 2日
特表 2024-514105 プラズマシース特性を制御するためのシステムおよび方法 2024年 3月28日
特開 2024-37955 遠隔プラズマ膜堆積におけるウエハレベル均一性制御 2024年 3月19日
特開 2024-38138 3次元垂直NANDワード線用の金属充填プロセス 2024年 3月19日
特開 2024-38344 パルス幅変調されたドーズ制御のためのシステムおよび方法 2024年 3月19日
特表 2024-512326 マスクCDの制御 2024年 3月19日
特表 2024-512465 静電チャック用の三極電極配置 2024年 3月19日
特開 2024-36449 マルチレベルRF電力パルシングのために高周波(RF)信号発生器の自動周波数調整を行う方法およびシステム 2024年 3月15日
特表 2024-511016 誘電率調節可能セラミック窓 2024年 3月12日
特表 2024-510254 プロセスチャンバの遠隔プラズマ洗浄用のノズル 2024年 3月 6日
特表 2024-510255 インジウムガリウム亜鉛酸化物のエッチング 2024年 3月 6日
特開 2024-29003 エッジエクスクルージョン制御 2024年 3月 5日
特開 2024-29058 ガス分配器および流量検証器 2024年 3月 5日
特開 2024-29060 ギャップ充填時の蒸着およびエッチングのための装置および方法 2024年 3月 5日
特開 2024-29147 半導体デバイス製造における酸化スズ被膜スペーサ 2024年 3月 5日

197 件中 151-165 件を表示

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2024-514605 2024-514105 2024-37955 2024-38138 2024-38344 2024-512326 2024-512465 2024-36449 2024-511016 2024-510254 2024-510255 2024-29003 2024-29058 2024-29060 2024-29147

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