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ラム リサーチ コーポレーション
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第178位 197件
（
2023年：第146位 259件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第216位 154件
（
2023年：第292位 112件）
（ランキング更新日：2025年1月10日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ラム リサーチ コーポレーションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2024-81722 | プラズマ処理ツールにおける画像に基づくプラズマシースプロファイル検出 | 2024年 6月18日 | |
| 特表 2024-521260 | ３Ｄ－ＮＡＮＤ用の高アスペクト比エッチングのための化学物質 | 2024年 5月30日 | |
| 特開 2024-73512 | 誘電体における高アスペクト比フィーチャのプラズマエッチング化学物質 | 2024年 5月29日 | |
| 特開 2024-73513 | 誘電体における高アスペクト比フィーチャのプラズマエッチング化学物質 | 2024年 5月29日 | |
| 特開 2024-73514 | 誘電体における高アスペクト比フィーチャのプラズマエッチング化学物質 | 2024年 5月29日 | |
| 特開 2024-73515 | 誘電体における高アスペクト比フィーチャのプラズマエッチング化学物質 | 2024年 5月29日 | |
| 特表 2024-521078 | エッチング制御のための開口を備える可動ディスク | 2024年 5月28日 | |
| 特表 2024-521079 | 複数セクションのプラズマ閉じ込めリング構造 | 2024年 5月28日 | |
| 特開 2024-69333 | セラミックベースプレートを備えるマルチプレート静電チャック | 2024年 5月21日 | |
| 特開 2024-69443 | 基板処理システムにおける基板支持体の動的温度制御 | 2024年 5月21日 | |
| 特開 2024-69652 | 高アスペクト比の誘電体エッチングを達成するための３つ以上の状態 | 2024年 5月21日 | |
| 特表 2024-519460 | ウエハセンタリング機能を備えた回転インデクサ | 2024年 5月14日 | |
| 特表 2024-519462 | 処理ツールにおける統合型大気プラズマ処理ステーション | 2024年 5月14日 | |
| 特開 2024-63144 | プラズマ処理チャンバ構成要素のための表面コーティング | 2024年 5月10日 | |
| 特開 2024-59868 | 準安定活性ラジカル種を使用する原子層処置プロセス | 2024年 5月 1日 |
197 件中 121-135 件を表示
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2024-81722 2024-521260 2024-73512 2024-73513 2024-73514 2024-73515 2024-521078 2024-521079 2024-69333 2024-69443 2024-69652 2024-519460 2024-519462 2024-63144 2024-59868
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